镍合金中内氧化物生长界面结构的AP-FIM的研究.pdfVIP

镍合金中内氧化物生长界面结构的AP-FIM研究 任太刚范学书 (中国科学院金属研究所固体原子像开放研究实验室) 辽宁沈阳 110015 摘要； 中内氧化物生长的界面结构。这技术很适合于研究合金中原子分布及氧化物与合金 之间的界面结构，并具有原子尺度的分辨。AP深度剖析表明在合金中si和cr原 子的分布比较均匀，而Ni原子分布有某些起伏。在低镍浓度区存在氧化物界面。 界面包含Cr0，Nio，Cr02和NiO：等。从此可推论合金内氧化的机理，首先氧分子被 吸附到合金表面，分解成氧原子(02-÷20)，然后氧原子通过晶界扩散到合金内部 形成氧化物(M十o_MO)，如果氧的浓度继续增加，便形成二氧化物 CM040-÷M02)。 关键词： 台金内氧化．界面结构，AP-FIM。 1．引言 多晶Ni．Cr．Si合金作为电子材料，加入cr用来改善合金的抗氧化性能和增加 台金的电阻。加入少量Si是改善材料凝聚强度。因此为从根本上了解合金的抗氧 化机理，研究Ni．cr．Si合金中的合金元素分布及氧化物的界面结构具有重要意义。 在材料科学中，表面结构的观察及从表面到实体的化学成份的测定是很重要的问 题。特别是界面结构的研究更具有重要意义。场离子显微镜(FIM)具有使试样表 面成像的能力，每个像点表示表面原子的排列。因此它能提供关于合金表层原子排 列的讯息。原子探针(AP)是飞行时间质谱计，用于分析试样的化学成份，具有 测定单原子的能力，并对从氢开始所有元素有相同的灵敏度。因此AP．FIM是研究 化物生长的界面结构。 2．实验方法与结果 本研究工作所用试样是加工状态的金属细丝，化学成份为Ni(744la瞄)- Crf23．J laCA)．Si(248at％)的合金。场离子显微镜所需的针尖试样用电解抛光方法制 备，具体细节请参阅其他文献【21。实验是在AP--HM仪器上进行，该仪器是由场离 子显微镜和飞行时间质谱计联合构成，并用计算机进行控制。场离子像由成像气体 0沁)通过在试样表面场电离得到。为此在试样上需要施加10Kv左右正高压(Vde) 使其产生足够高的场强，并且用液态氮将试样进行冷却，得到原子分辨的场离子像。 将制各好的针尖试样，袋入AP．FIM仪器中，仪器的真空度为4X10～Pa，成像气体 为Ne．压为为7xlo～Pa，便可进行场离子像的观察。为进行AP分析，使试样表面原 子进行场蒸发，除施加Vdc电压外，还要在针尖试样上施加高压永冲电压(VD)， 其脉冲电压比为V州dc=0．15较为合适，可避免台金元素的择优场蒸发。试样场蒸 发的速率为每秒0l单原子层，分析面积由探针孔径(孛=2mm)所确定，相当于试 样上几个原子所占的微小区域。 图l表示试样的场离子像，显示出无序的表面结构，即合金中基体元素并末 形成一定的晶体结构，这是由于试样加工状态的结果。但整个场离子象的衍村略有 不同，有的区域(像的中心区)显示出较明亮的斑点，经AP分析证明，在这些区 域存在Ni和cr的氧化物，并处于弥散状态，根据图像放大率为百万倍估计，颗粒 大小都在纳米尺度。图2表示合金质普图，除合金元素的谱峰如Ni+2．Cr+2和Si+2外， 还显示出CrO，NiO，CrO：和NiO：等谱峰。结果说明，在合金内部存在着金属原子 和氧原子相结合的原子团，形成了含氧量不同的金属氧化物，这是氧化物形成早期 阶段。 图3表示AP深度分析的结果，显示合金元素在合金中的浓度分布情况。横 坐标为原子层数，即合金原子浓度随不同原子层的变化，都有一定的起伏变化，其 中的Ni原子的起伏变化比较大而si原子浓度起伏较小。结果表明，在Ni原子和 Cr原子浓度较低的区域，氧化物的浓度变较高(如图表4所示)。图4结果表明． 和CrO：则比较少。含氧化物的界面区域AP分析结果如表1所示，在分析区域共 收集中3000．4000个原子进行统计分析。AP分析结果和化学分析基本一致。 Ni cr Si NiO Ni02 CrO Cr02 I化学分析 74．4I 23．1l 2．48 }AP分析6914 20．71 3．61 4．22 1．19 3 OO l 89