高分子共混物薄膜中粗化加速现象地研究.pdfVIP

2003年全国高分子学术论文报告会 杭州2003年10月争一14日 高分子共混物薄膜中粗化加速现象的研究 盐虽簋刘耀东孔祥明谢续明’ 高分子薄膜在很多高科技领域得到越来越广泛的应用，高分子共混物薄膜可以通过选择 共混工艺、调节各组分比例、控制相分离程度等手段来调节其性质。由于多数高分子共混物 为不相容体系，相分离是普遍存在的现象，研究高分子薄膜中的相分离规律对于调控其性质 意义重大。 本体(Bulk)条件下两相高聚物在熔融态下分散相粒子的成长过程已经被广泛地探讨，并 且已经有了比较成熟地理论存在。最常讨论的是奥氏熟化(Ostwald ripening)(即蒸发凝聚机 理)与布朗运动凝聚机理(Bmwnian 阶段的成长规律都是符合粒子的平均体积与时间成正比的关系，在低分子体系中已经得到公 认，在近期的高聚物两相体系中也得到了证实“。然而在聚合物薄膜中，由于维数效应和外 场作用，导致高分子在热力学、动力学以及分子的组织形势上与本体聚合物产生很大的不同。 本研究组先前的系列研究‘5’6中证明共混体系中分散相粒子在二维几何条件下与三维几何条 件下的粗化凝聚过程有本质的不同。如果用如下表达形式r=ro+Kto来表示分散相粒子的 生长规律，那么在本体环境中d=1，而在第三相基板界面附近的粒子会被加速，即dl。在本 本实验所用的EVAc为无规共聚物，对于具有不同VAc含量的样品，就具有不同的表面 张力。将PP与EVAc溶液法共混制成薄膜，各共混体系就具有不同的相界面张力。用玻璃片 夹住薄膜在200C下退火，用相差显微镜观察退火过程中分散相粒子(EVAc)的粗化情况， 图形数据输入电脑。用专门的图形统计软件处理不同退火时间的图像，可以得到分散相粒子 的粒径分布情况。通过拟合得到各体系的§值。将体系的界面张力与粗化过程的时间指数＆ 作图∞g．1)，可发现，存在着临界界面张力：当体系界面张力小于该临界值时，粗化规律与本 体时类似，满足分散相粒子的平均体积与时间成正比的关系；当体系界面张力大于该临界值 时，粗化过程被加速，分散相粒子的平均体积与时间的1．2—1．3次方成正比： l l j1 2 ： l 。 《¨ 1 g 导 u u_H，uo_c目oA!￡_ l J1 o O 55 60 o30 035 o‘0 0幅。邬0 0 theinterracial tension(dyn／c,) theInterracialteD$ion(dyll，C11) Plot otvolueofPP／EVALVA ofraterfacialtension Plat nfPP／EVAc 啦2 agatast F培I Q￡咖￡ac试k响啦ag螂ttvlh 为了进一步得到和验证临界界面张力的值，我们还将EVAc(VAcw％=14％)进行皂化调 节其