电沉积氧化镍钻电致变色薄膜材料其双层膜地研究-.pdfVIP

!g 墓盎墨全璺里堡墨壁主查金塾煎妻鑫 电沉积氧化镍钴电致变色薄膜材料其双层 膜的研究+ 于振瑞，杜金会，贾小东，李长安，张加友 天津运输工程学院电工电子教研室，邮编300161 摘要：利用电沉积方法制备了氧化镍及氧化钴电致变色材料并对它们的结构及电色特性进 行了研究．两种材料均在可见光范围内表现出良好的电致变色特性．对两种材料的共沉积 物薄膜的电色特性进行了研究，发现改变薄膜中的Ni、co组份可以调节薄膜的响应光谱． ．一 同时对氧化镍／氧化钴双层膜进行了研究，在可见光段获得明显的光反射率调制． 1．引言 部分过渡金属氧化物在外加电场的作用下可以发生可逆的着色煺色现象，称为电致变 色(下称“电色”)[1lo电色材料在诸如大面积显示”】，灵巧窗纠及汽车无眩后视镜州等方 面有重要的应用前景． 目前的电色材料对光的透过率的调制主要是通过其对光的吸收完成的．对于大面积器 件而言，就产生了一个问题：当入射光较强时，器件的温度将很高，在器件内部形成应力 而损坏器件，给电色材料的应用带来了一定的困难．如果能通过对反射率的调制而实现对 透过率的调制，将为器件的应用带来很大的方便剖．本文报导我们刺用电沉积的方法制备 氧化镍、氧化钴电色材料及其双层膜的结果．在可见光区域获得明显的反射率调制． 2．实验 所用样品用脉冲电沉积的方法制备而成．沉积用方波脉冲，脉冲宽度为4ms，通断比 为1．沉积电流密度为2 Sn02透明导电玻璃作为阴极(同时作为样品的基片)，Pt薄片作为阳极．溶液浓度及沉积 电流密度可调．对于双层膜而言、先沉积一层N《0H)2薄膜，然后再沉积一层Co(OHh薄 膜，对各层的厚度进行调节以获得最大的反射率．样品的详细制备过程请参看文献“． 利用x射线衍射及透射电镜对材料的结构特性进行了研究，从而确定了材料的结晶方 向及晶粒尺寸．材料的电色特性在O．5M的KOH溶液中测量．测量了材料着色前后透过率、 反射率及电致变色速度． 3．结果与讨论 x射线衍射测量表明在我们的实验条件下沉积的薄膜为结晶的六边晶系的含水 Co(OH)2)层之间．水分子的含量对电色特性有很重要的影响．透射电镜研究表明，电沉 积的薄膜结构均匀，晶粒平均分配在整个生长表面上，晶粒尺寸大约为10～30fm左右． 的x射线衍射谱．可以看出，随着Co含量的增加，衍射峰的半宽度明显变窄，说明晶粒 尺寸增大．图2为典型的Ni(OHh样品的透射电镜暗场形貌图及衍射花样． 釜查厦垒璺星焦蔓蕉堂查垒垫监圭苤 距 红色，电压反向后薄膜退色，又变为全透明状态(透过率为100％)，薄膜可以在着色，退 色两个状态之间反复变化，能循环l矿次而没有明显的衰退：而Co(OH)2原膜也为透明状 态，着色后变为棕色，薄膜在退色时为淡黄色，经过多次循环后样品出现明显的衰退． 节薄膜的透射光谱．在一微机控制的721分光光度计上测得薄膜的电色时间(定义为透过 军从100％一10％所需要的时间)在100—300ms之间． 为了得到较大的光反射率调制，我们制备了Ni(O固≥，c“O}现双层膜样品．制备过程 膜．调节每层的厚度，研究样品着色后反射率与各层的关系．实验发现，Ni(OHh的厚度 nm时效果最好．此时，可以得到最大的反射率调制幅度．图4给出了样品(各层厚度分别 为500m及50m)在着色及退色时的反射率谱．可以看出，在可见光区域，反射率光谱 的调制幅度很大，在着色时反射率可达40％，而退色时只有15％左右．作为比较，厚度相 同的Ni(OHh单层膜在着色时的反射率只有20％左右．双层膜的较大的反射率调制可能是 界面处产生较大的反射．这一假设可以用实验来证实．利用椭圆偏光法可以测量每层薄膜 的折射率，然而目前我们的样品生长在透明导电膜上，给测试造成了很大的困难．另外， 由于样品所用基片为绒面的Sn02玻璃，对光的反射率有一定的影响．预计采用光面透明导 电膜将有助于近一步提高反射率．该研究正在进行中． 4．结论 验表明单层膜样品具有较好的电色特性(对光的透过率的调制幅度较大，变色速度较快)， 优化各层的厚度，获得了明显的反射率调制幅度．在可见光区域，反射率可在150／,一40*／． 之间变化． 参考