Mo／B4C多层膜界面热稳定性TEM研究.pdfVIP

电子显微学报J．Chin．Electr．Microsc．Soc 17(5)545～5461998年 545 薛钰芝沈长斌林纪宁 马月英” 曹建林+ (大连铁道学院，大连116028)(’长春光机所应用光学国家实验室) 软x射线光学多层膜反射镜应用于x射线激光、x射线显微镜、望远镜、x射线曝光机，同 步辐射引出装置等，作为关键部件。这种多层膜由高原子序数和低原子序数的两种材料交替沉积 堆垛而成。可看作间距纳米量级的一维晶体。目前Mo／Si多层膜应用在波长为13nm左右，其反 射率可达50％。但是对波长在10am以下的多层膜，反射率只有10％左右。截面粗糙度对反射率 的影响由下式表示： 尺(口)=Roexp[一2(2，racosa／A)2] (1) 其中风为理想光滑界面的粗糙度，一为界面粗糙度，^是波长，a是入射角。(1)式说明发射率随 界面粗糙度的增大而减小，引起界面粗糙的原因有界面混杂、界面扩散、界面反应等等。在加热条 件下，界面的粗糙度将增大，对反射率的影响较明显。研究短波长的软x射线多层膜及其界面特 性是目前国际上该领域的热点问题。由于这种多层膜在x射线辐射的条件下运用，界面的温度 变化对其性能的发挥起决定性作用。同时，选择高温材料作为低原子序数的“间隙层”，是提高界 面热稳定性的有效方法。 温半小时。 界面已无法分清，而Mt3／B4C多层膜在加热温度为800度时，强度峰值仍具有周期性结构特征。 应用线锯切割、粘接、机械研磨、凹坑及离子减薄等工作步骤，我们将Mo／B4C多层膜制成截面 的粘接法，图1为粘接后的透射电镜观察图像，深色的条为基底及多层膜。图2、3、4为放大的多 层膜截面TEM像，深色条状区为金属Mo。说明在常温到400度加热条件下，其条状结构明显， 散的原因，但是周期性结构仍然清晰，这说明Mo／B4C多层膜具有很好的热稳定性。TEM观测 度时仍保持周期结构。 致谢此为辽宁省自然科学基金资助项目，得到北京大学电镜室汪裕萍、张晓萍和长春光机所吕 俊霞、裴舒等老师的帮助，在此表示感谢。 一参考文献 [1]薛钰芝，林纪宁，VerboevenJ．真空科学与技术学报，1994，14(2)，114． 电子显微学报J．Chin．Electr．Microsc．Soc． 546 17(5)；545—5461998年 DGet [2]Stearsa1．J．Appl．Phys．，1990，65(5)#2415． Ket [3]Hollowaya1．J．Appl．Phys．，1989．85(2)：474． [4]吕俊霞，曹建林．光学精密工程．1998，4(5)；37． 图3当Mo]B4C多层膜加热到400c时的TEM截面像 图4当Mo／B4C多层膜加热到600C时的TEM截面像