Fe-N薄膜铁磁共振研究.pdfVIP

Fe．N薄膜的铁磁共振研究 姚振钰刘志凯江海秦复光张建辉 中国科学院半导体研究所(北京，100084) 朱生传孙允希 北京大学物理系(北京，100871) 摘要一利用离子束辅助沉积法，在Si(100)基片上制备了三种Fe-N薄膜(到达比N／Fe =0．09，o 和铁磁共振线宽，结合磁性测量、电镜观察等物理手段的实验结果，进行综合分析． 1．引言 要的理论意义和实用意义【1·3]． 我们发表过一系列关于利用离子柬辅助沉积法合成的 Fe_N薄膜的结构和磁性的研究文章[4—6]．本文着重介绍Fe—N薄膜的铁磁共振研究的实验 结果和综合分析． 和铁磁共振线宽，结合磁性测量、电镜观察等物理手段的实验结果，进行分析研究． 2．测量原理 对于Fel6N2单晶薄膜【2—3】，三个易轴的铁磁共振关系式为[7] [001]：∞／丫=H，+Hkl-4riM。 L [100]：(o／v)22(Hr+Hka)(Hr‘Hkl+4ⅡMs) 【llO】：(o／y)2=(Hf—H凶(H，．Hkl+4riMs一0．5Hu) 其中，∞为微波圆频率，Y为旋磁比，H，为共振磁场，Hkl为单轴各向异性场，Hk2为 平面各向异性场，M。为饱和磁化强度．由这三个关系式，可以确定g因子、Hk2和mkl． 4AM。)，再确定Hkl(已知4rcM,)或4riM。(已知Hkl)． 对于Fe-N多晶薄膜，在外磁场平行膜面情况下，铁磁共振关系式为： (∞伪2_HAH，+4“Ms) 利用上式，在两个微波频率情况下，可以同时确定g因子和4riM,：在一个频率情况下 已知g因子，可以确定4ⅡM。． 鹤 3．实验 o．12，O．t5)．通过俄歇电子能诺仪和x射线衍射仪分析薄膜成分和结构，振动样品磁强计测 量磁学性质，铁磁共振确定饱和磁化强度和铁磁共振线宽，电子显微镜观察表面结构和电 4．实验结果和分析 在X波段和TEt02矩形腔进行铁磁共振测量，实验结果如表1所示．磁性测量的实验 结果如表2所示． 现在对实验结果做一些说明和分析： 根据我们的实验情况，外磁场不大于10 和存在另相来解释． Oe：而 FNl和FN3样品的线宽(531Oe，664 Oe)却大得多．除了样品成分不同外，气孔和杂质 具有较多的气孔和杂质． (4)三种Fe-N薄膜的饱和磁化强度，由铁磁共振测量得到的数值比由振动样品磁强计 的要小． 原因是使用的微波频率较低，相应的外磁场不足以样品饱和(见表1．2)．考虑 未饱和因素进行修正，可以得到相近的结果． 表1 铁磁共振测量实验结果 +g=2．0 表2磁化曲线实验结果(室温) 5．结论 构分析仪器和振动磁强计的测试结果，进行综合分析，理论与实验相当一致．为了用铁磁 共振法测得准确的饱和磁化强度，必须提高微波频率(例如毫米波段)． 6．感谢 振实验室、电镜实验室的帮助，表示衷心感谢． 参考文献 et 【1】T．K．Kima1．，Appl．Phys．Lett．，20(1972)492． et [2]H．Takahashia1．，J．Appl．PhyS．，73(10)6060． et a1．，J 【3】Y．su百ta appl．Phys．，79(1996)5576． et 【4]HJianga1．，Acta．MetallurgicaSinica,30(1994)B273 et [5】H．Jianga1．，J．Appl．Phys．，78(1995)32