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深亚微米线条的制作技术 王新华 严剑荫 (华晶电子集团公司掩模工厂无锡214061) 【摘要l本文以这几年为用户提供线宽cD为o．4urn，公差要求±0．1ure的掩摸版，通过不 断的实验．阐述了线宽为深亚微米的制作与普通线宽的制作．从数据处理、设备调整、曝 光排版、版质量选材、工艺处理等各项技术难点用不同解决方法，为制备精细掩模成为了 可能．为纳米技术的研究奠定了基础。 随着科学技术的不断进步，网络化．超微型化，多媒体化及社会迅速的信息化，促进 了微电子技术也向ULIS方向发展，而掩模制作是微电子技术中的重要环节．因此对掩模 技术提出了更高的要求，向精细掩模方向发展。 精细掩模在版图的面积，数据量，复杂程度．线条宽度，版的套准精度，尺寸公差(cD) 控制，缺陷定义与常规的掩模是不同的，特别是线条的条宽，有的要求提高一个数量级， 因此lum以下线条的掩模制作，从80年代中期开始实验，现以成熟并投入生产。 深亚微米线条的质量主要与设备的长期可靠，稳定工作有关．并且咀设备的调整，数 据的处理-曝光剂量的大小，版的原材料，工艺处理等都是分不开．下面进行逐步阐述。 ‘ —．深亚徽米缝条制作的设鲁介绍； 设备是引进德国IE,OPTILC公司生产的电子束曝光机zBA一一23型．它的结构如图1： (图1) 它由电子光学系统，真空系统-激光工件台，计算机系统等组成。电子束柬斑是可变 矩形柬斑，变化范围是0．15um一一6 15um， 3um之间．加速电压20干伏，图形拼接精度0 套准精度0．Ium，：图形旋转45度角等等，是一台复杂、高精密的设备。 =．设鲁调整与深亚徽米的关系： 由于深亚微米线条制作要求很高，正负偏差控制在0．05um左右以下．因此设备的调 整是重要环节，现介绍调整步骤。 ·277· 2．1调整韵有耀序与具备的条件t A． 存贮设备的各种参数程序——MEMORY。 B． 工件台扫描程序一TBLSWP，它的主要功能调用MEMORY中的相关参数，直 接控制设备，并执行某个特定功能。如：电子柬在工件面上扫描已给定的图形。 C． 设各自动效正程序——7usEI，包括自动对中，自动聚焦．束斑校正，自动寻找 工作夹上的标记等。 D． 谓整应具备的条件．自动检查计算机是否正常，控制接口部件的诊断是否通过电 源正负偏差不能超过允许范围，软件系统运行正常．高压稳定，真空度到达3X104pa 时，将带有工件的版架装入工件室中．降到相应层，交换到工件台上．方可调整。 2．2调蔓设鲁的步一： A． 使电子柬柬斑自由地射到工件平面与L16轴心在同一轴心上，并将柬斑调到最亮。 B。 调观察系统，确保观察图象与工件平面图象的一致性。 转束斑。 D． 调整各拼接图形，用TBLSWP程序，找出工件夹上的标记，细调各种参数。 E． 看拼接图象B4．B34，B24如图2： l f ra (B24图) (图2) 此图形的功能是用来检查电子柬的柬斑在工作时的拼接情况，即不能裂开．裂开会造 成线条断裂．又不能有明显的重章．重叠会造成竹接，线条一接一接成粗细不均的条，因 此调整的好坏宣接关系到版图线条的质量。最后用JUSEI进行全面效正．井将细调的各种 参数值存^程序MEMORY中． -278· —————1疆谲甄翻骶一一 三．深亚徽米城条对数据处理的要隶：