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2017-08-11 发布于重庆
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TiN_AlN纳米多层膜的研究.pdf

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TiN_AlN纳米多层膜的研究.pdf

　材料工程1999年11期纳米多层膜的研究 T iN A lN A Stu dy o f T iN A lN N ano M u lt ilayer s 李戈扬, 施晓蓉, 吴亮, 许俊华 (上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室, 上海 200030) ( ) 戎咏华, 张惠娟上海交通大学国家教委高温材料及高温测试开放实验室, 上海200030 , , , L I Ge yan g SH I X iao ron g W U L ian g XU J un hu a (State K ey L ab o f MM C s, Sh an gh a i J iao Ton g U n iver sity , Sh an gh a i 200030, Ch in a) , RON G Yon g hu a ZHAN G H u i ju an (T h e State E du cat ion Comm ission Op en R e search L abo rato ry fo r H igh T em p eratu re M ater ia ls an d T e st in g , Sh an gh a i 200030, Ch in a) [ 摘要 ] 　采用反应溅射法制备了纳米多层膜, 并通过 , 和显微硬度计对多层膜的调 T iN A lN XRD HR EM 制结构和力学性能进行了研究。结果表明: 纳米多层膜有较好的调制结构。小调制周期时, 调 T iN A lN A lN 制层以结构在调制层上外延生长。调制周期增大, 调制层中出现六方晶型。的显微硬 FCC T iN A lN T iN A lN 度随调制周期的减小单调上升, 并在调制周期 = 2 时达到最高值 3 2 9 3。硬度的增高极有可能是小调 nm H K 制周期时立方A lN 的形成所致。 [ 关键词 ] 　纳米多层薄膜; 反应溅射; 调制结构; 显微硬度 [ 中图分类号 ] O 4 84 　 [ 文献标识码 ] A 　 [ 文章编号 ] 10 0 14 3 8 1 ( 19 9 9 ) 1 10 0 0 6 0 4