氦压对类金刚石薄膜结构和光学性质的影响.pdfVIP

第 29 卷 　 第 4 期 物 　理 　实 　验 Vol . 29 　No . 4 2009 年 4 月 　 　 　　　　　 　　　P H YSICS EXP ER IM EN TA T ION 　　　　　　　　 Ap r . ,2009 氦压对类金刚石薄膜结构和光学性质的影响 1 1 ,2 1 1 1 丁旭丽 ,李清山 ,徐言东 ,于业梅 ,李新坤 ( 1. 曲阜师范大学 物理工程学院 ,山东 曲阜 273 165 ; 2 . 鲁东大学 ,山东 烟台 264025) 　　摘 　要 :使用脉冲激光沉积技术在不同氦压下制备了系列无氢类金刚石薄膜 ,测量了样品的 Raman 光谱 、光吸收光 谱和光致发光光谱 ,采用原子力显微镜测试了薄膜的表面形貌 ,研究了薄膜的微结构和光学性质与制备条件的依赖关 系. 结果表明 ,该薄膜是由sp 2 和 sp 3 杂化碳原子组成的非晶碳膜. 薄膜的光学带隙在 1. 45～1. 78 eV . 薄膜的发光在可 见光区呈宽带结构 ,氦压能够对类金刚石薄膜的结构和光学性质产生较大影响. 当氦压从 0 . 05 Pa 升高至 15 Pa 时 , sp 2 团簇变大 ,带尾态增多 ,从而导致薄膜的发光增强 ,光学带隙变窄 ,发光峰位红移. A FM 形貌表明随着氦压的升高 ,薄膜 的表面由致密光滑变得粗糙 ,并且许多大小不均匀的球状颗粒出现在薄膜表面. 关键词 :类金刚石薄膜 ;脉冲激光沉积 ;氦压 中图分类号 :O484 ; TN 304 . 18 　　　文献标识码 :A 　　　文章编号 (2009) 0400 1105 sp 3 ,甚至一小部分 sp 1 组成的非晶碳膜[79 ] . 力学 1 　引　言 3 2 性质主要由 sp 相控制 , 而光学性质主要 由 sp 由于独特的原子结构和性能 ,类金刚石薄膜 相控制[7 ] . 通过生长条件的变化可以改变薄膜中 在最近的 20 年来备受科研者的关注. 类金刚薄 sp 2 和 sp 3 的相对百分含量 ,从而可以改变薄膜的 膜在很多方面类似金刚石薄膜 ,如高的硬度 、低的 物理性质. 含氢的非晶碳膜的光致发光已被广泛 ( 摩擦系数 、良好的热传导性 、高的透光性 尤其在 研究了. 自从文献[ 7 ] 报道了在氩气环境生长的 ) 红外区 、高的电阻率 、好的化学惰性 、生物兼容 类金刚石薄膜的光致发光以来 ,关于无氢类金刚 性 、无毒 ,等等[ 16 ] . 所有这些特性都使得类金刚 石薄膜光致发光的报道却很少 ,尤其在惰性气体 石薄膜被广泛应用在许多工业领域 ,如切削工具 环境中生长的无氢类金刚石薄膜. 本文使用脉冲 的硬涂层 、医学 、太空设备以及光学窗口的保护涂 激光沉积技术在不同氦压下成功地制备了系列无 层 , 以及磁盘的保护膜等[710 ] . 类金刚石薄膜可 氢 DL C 薄膜 ,测量了样品的 Raman 光谱 、光致发 以用物理的或化学的方法合成 ,但是许多化学的 光光谱 、光吸收谱 、A FM 表面形貌 ,研究了薄膜 方法往往用甲烷或乙炔作为