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(HAuCl )溶液中,溶液中为了能够避免溶液的团 3 测试结果及讨论
3
聚失效而加入了一定量的聚乙烯亚胺(PEI),其使 3.1 黑硅表面结构测试结果
用量为HAuCl3 的4 倍(图1 所示中的第2 步)。 如图2 所示为黑硅表面结构形貌SEM 测试结果,
将表面沉积有纳米金颗粒的衬底放置在腐蚀溶 从正面图(图2 (a) )看出,在表面均匀布满了孔,
液中进行多孔黑硅表面腐蚀,腐蚀溶液由氢氟酸(HF) 而断面测试可看出,孔径随着腐蚀深度的增加而逐
溶液、双氧水(H O )及去离子水(DI-H O )混合 渐减小,形成了锥状结构。正是这些深孔的形成使
2 2 2
而成:HF:H O :H O=1:5:10,此为图1 中的第3 步。 得黑硅表面具有很好的陷光效果,具有很低的表面
2 2 2
至此,即已完成了多孔黑硅表面结构的制备(第 反射率。不同腐蚀时间及 Au 沉积时间对于黑硅表
1 步-第3 步),黑硅的整个制备过程中,无须加热, 面孔径及孔深的大小都会形成影响,如图2 所示,
也不用进行制冷,室温下进行金沉积及腐蚀即可。 随着腐蚀时间的延长,黑硅表面结构的孔径及孔深
2.2 黑硅太阳电池的制备 增大,如图 2 (c )、(d )所示。同时,腐蚀时间的
对于太阳电池来说,贵金属金(Au )在Si 衬底 延长对黑硅结构的表面反射也有影响,如图3 所示,
中为深能级杂质,在禁带中激发了两个能级,是有 可见过长的腐蚀时间不仅不会有效降低表面反射,
效的复合中心,能够有效降低少子寿命,降低电池 反而会导致表面反射率的提高。这可能是由于长时
性能,从而降低了太阳电池的转换效率。所以在制 间的腐蚀,表面孔径增大,降低了有效的陷光效果。
备成为电池之前,需要清洗,以充分去除Au 元素对
电池性能的不利影响。
(a)
2.2.1 黑硅衬底的清洗
首先采用碘(I )溶液对Au 进行充分清洗,溶
2
液配制为I : NH I : H O = 1 : 4 : 40 ,在80 oC 条件下
2 4 2
将多孔黑硅表面衬底煮约5 min 后采用DI-H O 进行
2
充分冲洗。为了确保Au 元素的完全去除,同时保证
在高温扩散过程中不会造成对扩散炉的污染,多孔
黑硅表面衬底后续还采用王水及 SC Ⅱ溶液进行充
分清洗。其中,每次充分清洗完成后采用DI-H O 充
2
分清洗。
2.2.2 黑硅太阳电池制备
采用常规太阳电池制备方式进行黑硅电池制备,
(b)
即扩散、二次清洗以去除衬底表面形成的磷硅玻璃
(PSG )、PECVD 在前表面沉积SiN 减反射钝化膜、
x
丝网印刷前后电极及背场、烧结后测试分选。其中,
为了研究不同程度的磷扩散掺杂,在扩散过程中采
用了不同的温度,形成不同的扩散方阻,根据电池
性能测试研究不同掺杂程度黑硅性能的变化。
反射率,但是多孔的表面结构同时也增大了有效比
(c)
表面积,提高了载流子的有效复合率,从而降低了
太阳电池的开路电压。另一个原因在于,多孔的
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