椭偏光散射分析类金刚石薄膜的散射特性.pdfVIP

维普资讯 第 20卷 第 6期 强 激 光 与 粒 子 束 Vo1．20，NO．6 2008年 6月 HIGH POW ER LASER AND PARTICLE BEAMS Jun．，2008 文章编号 ： 1001-4322(2008)06—0885—06 椭偏光散射分析类金刚石薄膜的散射特性 潘永强 ， 吴振森 (1．西安电子科技大学 理学院，西安 710071；2．西安工业大学 光 电工程学院，西安 710032) 摘 要： 基于光学薄膜反射椭偏法的测量原理，对光学薄膜散射椭偏特性进行了研究。给出了光学薄膜 散射逆问题的解决方法 ，并对不同脉冲频率下采用脉冲真空电弧离子镀技术沉积的类金刚石薄膜的散射特性 进行了研究。分析了光学薄膜界面的相关特性以及膜层 中局部缺陷对散射光椭偏特性的影响。结果表明：随 着脉冲频率的增加，所沉积的类金刚石薄膜的相关性变差，且薄膜中的局部缺陷引起的体散射越明显。 关键词： 光散射； 椭偏法； 光学薄膜； 相关性； 类金刚石薄膜 中图分类号： 0484 文献标识码 ： A 类金刚石 (DLC)薄膜是 sp。键含量较高的无定形碳膜 ，因其具有非常优良的光学、电学和机械特性，得到 广泛的应用[1]。目前 ，制备类金刚石薄膜的技术有许多种，类金刚石薄膜的性质强烈依赖于薄膜的制备技术和 制备工艺 ，因此 ，如何更加深入地研究类金刚石薄膜的特性 ，对进一步开发研究其应用至关重要 。 多年来 ，国内外许多学者一直致力于薄膜光散射的研究[2]以增强人们对薄膜表面粗糙度[7书]、膜层体不均 匀等微观结构的认识[g引。对于光学薄膜散射的逆问题 ，Amra等人先后提 出了不 同的方法来解决，主要有利 用散射光波长的变化[5引，利用粗糙面光谱各向同性度[7]，以及利用斜入射沉积的薄膜 的散射特性等方法[8]。 究其理论 ，主要集中在膜层散射光强度的研究上 ，对散射光偏振特性 的研究甚少。然而 ，散射光的偏振特性具 有更多更重要的信息。本文依据反射椭偏测量的基本原理，提出了光学薄膜散射光椭偏测量技术(因为散射光 的椭偏测量中包含 了散射光的所有偏振状态 ，从而导致 了散射光的偏振相位差)，给出了如何通过薄膜表面散 射光的相位差来研究光学薄膜散射的逆问题 ，从总体上讨论 了光学薄膜散射的椭偏测量方法 。并用该理论方 法对类金刚石薄膜 的散射椭偏特性进行了研究，着重研究了脉冲真空 电弧离子镀沉积技术在不 同脉冲频率条 件下沉积的类金刚石薄膜表面散射和体散射的分离及其薄膜 中的局部缺陷等问题 。 1 反射椭偏的测量理论 反射椭偏测量主要用于测量样片的厚度、折射率等参数n ，对于多层光学薄膜 ，反射椭偏测量结合分光光 谱测量可以获得每层膜的厚度 以及折射率的色散关系。图 1给 出了反射椭偏测量的示意图，入射角为 i，起偏 器和检偏器的可旋转方位角分别为 和 。测量方向为 S线偏振方向，如图2所示。 设入射的直线偏振光的振幅为 E ，方向如图2所示 。并假设多层膜样片的膜层材料是各 向同性、均匀非 p analyzer polarizcr~()＼／ X、 ㈣ ＼／／sample 嫠螫餐 蠢簇 嚣 嬲舞鞭鼗 鬻黼 Fig．1 Schematicview ofreflectanceelipsometry Fig．2 Azimuthanglesofpolarizerandanalyzerand 图 1 反射椭偏测量示意图 angleofincidencelinearpo larization 图 2 起偏器和检偏器 的旋转方位角及入射线偏振角 的关