钼表面（Mo,W）Si2-Si3N4复合涂层的低温氧化行为研究.pdfVIP

第21卷 第3期 厦门理工学院学报 V01．2l No．3 2013年 9月 JoumalofXiamenUniversityofTechnology Sep．2013 钼表面 (Mo，W)Si2-Si3N4复合涂层的 低温氧化行为研究 张厚安 ，吴艺辉 ，古思勇，林 佳 ，庄树新 (厦门理工学院材料科学与工程学院，福建 厦门361024) [摘 要]采用包渗法在钼表面原位帝】备了(No，w)Si2_si3N 复合涂层，考察了其在大气中于500℃和 600℃等温循环的氧化性能，利用XRD和SEM等研究了其组织形貌．结果表明：(Mo，W)Si2-Si3N 涂层具 有 良好的低温抗氧化性，其在空气中500℃和600℃氧化480h的氧化速率分别为0．0145g／(m ·h)和 0．0191s／(m2．h)，归因于涂层氧化表面形成了致密的SiO2膜． [关键词] (Mo，W)Si2-Si3N4涂层；钼；低温氧化 [中图分类号]TG174 [文献标志码]A [文章编号]1673—4432(2013)O3—0001—04 金属钼及其合金因为具有高熔点、抗腐蚀性和良好的导热导电性等优点而被广泛运用于冶金、石 油、化工、航天航空和电子等诸多领域 ．但钼及其合金在空气中约250℃时就开始氧化， 450—650oC氧化程度加剧，650oC以上急剧氧化生成挥发性的三氧化钼，导致钼的脆化和结构失 效 ]，极大地限制了钼及其合金的应用范围．因此，提高钼及其合金的抗氧化性能成为扩展其应用 领域的关键．表面涂层是提高钼及其合金抗氧化性的有效方法．Chakraborty等采用包渗法在 TZM (Titanium—Zirconium—Molybdenum)合金上制备了铝化物涂层，其在 1000～I200℃表现出较好的抗氧 化性 ；夏斌等通过包渗法在钼合金上制备了MoSi涂层 ；古思勇等采用原位反应法在钼表面制备 了Mo—Si—N—B涂层，其在 1450℃大气环境中稳定抗氧化时间达 100hJ．MoSi因高温氧化时表面会 生成一层致密、具有 自愈能力的SiO 保护膜而具有优异的高温抗氧化能力 J，但其在 500oC附近易 发生 “PEST”现象，即氧化灾难 ，材料 由块状变成粉状 J．Hsieh等发现添加体积分数为30％ ～ 50％的SiN 可提高MoSi的低温抗氧化性能 ¨．添加钨元素也可提高MoSi的抗氧化能力 ¨．本文 采用包渗法在钼表面制备了(Mo，W)Si一Si，N 复合涂层，探讨该涂层材料在500oC和600℃的氧化性 能，分析其原因，为制备高性能的抗氧化涂层钼材提供依据． 1 实验方法 将表面去除氧化物和抛光的钼 (4,15mm×3mm)经三步包渗处理，制备出(Mo，w)Si2--Si。N 复 合涂层钼样品：(1)在氩气气氛下于 1000oC保温5h渗钨，获得样品A；(2)将样品A于 1200℃ 保温3h渗氮，获得样品B；(3)将样品B于800℃保温5h渗硅． 将涂层钼样品在箱式炉中于500℃和600oC大气环境下进行等温循环氧化实验，周期性地取出样 品，自然冷却后用电子天平 (精度为0．1mg)称取样品的质量变化．采用HITACHIS-4800型扫描电 子显微镜观察涂层样品的表面及截面形貌．以x’PertPowder多功能X射线粉末衍射仪分析涂层表面 物相组成，其管电压为40kV、管电流30mA，扫描的2 角度范围为 10—90。，扫描速度6。／min， [收稿 日期]2013—08—11 [基金项目]国家 自然科学基金项 目 51371155) [作者简介]张厚安 (1970一)男，教授，博士生导师，研究方向为材料制备与性能评价．E-mail：ha_zhang@163。corn · 4· 厦门理工学院学报 2013经 temperature[J]．MaterialsScienceandEngineering，2008，A479(1／2)：76．82． [3]康轩齐，王