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《CVD金刚石薄膜表面抛光技术的研究》.pdf
2008年2月 航空精密制造技术 Feb.2008
AVIATloNPREC|sloNMANUFACTURlNGTECHNoLoGY No.1
第44卷第1期 voI.44
CVD金刚石薄膜表面抛光技术的研究
张克华也,文东辉2,袁巨龙2
(1.浙江师范大学交通学院。金华321014
2.浙江工业大学机械制造及自动化教育部重点实验室,杭州310032)
【摘要]对CVD金刚石膜的离子束铣削、电子束加工、激光加工、化学辅助机械抛光、热化学抛光等抛光技
术的加工方法与原理进行了介绍,分析了这些方法的优点和不足之处。并展望了CVD金刚石薄膜抛光技术
的发展方向。
【关键词】化学气相沉积;金刚石薄膜;抛光
【中Itt分类号]TG580.692 [文献标识码】B
of forCVDDiamondThinFilms
StudyPolishingTechnology
ZHANG
Ke-hua,WEN
Dong-hui,YUANJu-long
Normal of 321014
(1.ZhejiangUniversityCollegeTransportation,Jinhua
ofMechanical
Manufactureand
2.KeyLaboratory Automation,
of of
ZhejiangUniversityTechnology,MinistryEducation,Hangzhou310032)
methodand of for
[Abstract]The chemical filmswere
principlepolishingtechnology vapourdeposition(CVD)diamondintroduced,
suchasionbeam beam,laser,chemical-assistedmechanicalandthermalchemical merit
milling,electronic polishing polishing.The
andthe were directionof forCVDdiamond
analyzed thinfilmWas
deficiency too.Finally.thedevelopment polishingtechnology
forecasted.
【Keywords】chemicalvapour thin
deposition;diamondfilms;polishing
1引言 绝缘性质使金刚石薄膜可以作为半导体激光器和集
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