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《CVD金刚石薄膜表面抛光技术的研究》.pdf

2008年2月 航空精密制造技术 Feb.2008 AVIATloNPREC|sloNMANUFACTURlNGTECHNoLoGY No.1 第44卷第1期 voI.44 CVD金刚石薄膜表面抛光技术的研究 张克华也,文东辉2,袁巨龙2 (1.浙江师范大学交通学院。金华321014 2.浙江工业大学机械制造及自动化教育部重点实验室,杭州310032) 【摘要]对CVD金刚石膜的离子束铣削、电子束加工、激光加工、化学辅助机械抛光、热化学抛光等抛光技 术的加工方法与原理进行了介绍,分析了这些方法的优点和不足之处。并展望了CVD金刚石薄膜抛光技术 的发展方向。 【关键词】化学气相沉积;金刚石薄膜;抛光 【中Itt分类号]TG580.692 [文献标识码】B of forCVDDiamondThinFilms StudyPolishingTechnology ZHANG Ke-hua,WEN Dong-hui,YUANJu-long Normal of 321014 (1.ZhejiangUniversityCollegeTransportation,Jinhua ofMechanical Manufactureand 2.KeyLaboratory Automation, of of ZhejiangUniversityTechnology,MinistryEducation,Hangzhou310032) methodand of for [Abstract]The chemical filmswere principlepolishingtechnology vapourdeposition(CVD)diamondintroduced, suchasionbeam beam,laser,chemical-assistedmechanicalandthermalchemical merit milling,electronic polishing polishing.The andthe were directionof forCVDdiamond analyzed thinfilmWas deficiency too.Finally.thedevelopment polishingtechnology forecasted. 【Keywords】chemicalvapour thin deposition;diamondfilms;polishing 1引言 绝缘性质使金刚石薄膜可以作为半导体激光器和集 成电路芯片的散热器件。提高激光、计算机的性能和 自古以来。璀璨夺目的金刚石一直是人们梦寐

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