《含Si-O-P键的减反膜结构及性能影响因素研究》.pdfVIP

第 29卷 第 6期 无 机 材 料 学 报 VbI_29NO．6 2014年 6月 JournalofInorganicMaterials Jun．．2014 文章编号：1000—324X(2014)06．0639-06 DoI：10．3724／SP．J．1077．2014．13416 含 Si—o—P键的减反膜结构及性能影响因素研究 王 燕，王红宁，陈若愚 (常州大学 石油化工学院，常州213164) 摘 要：采用SiO2水溶胶(ACS)为硅源，H3PO4为桥联剂，H202为活化剂在玻璃表面成功制备了一种性能优异的新 型减反膜 。利用 FTIR、XRD、FESEM、TEM、AFM 对薄膜结构、形成机理及性能进行了研究，结果表明，在成 胶过程中，H2O2的导入有效修复了SiO2胶粒的表面羟基，提高了SiO2的反应活性；而在焙烧过程中，H3PO4通过 其 自身脱水形成的偏磷酸链状体分别与 SiO2胶粒及玻璃基底表面的 Si—OH进行了脱羟基缩聚，构架了坚固的 Si—O—P网络交联，最终形成了稳定的磷硅酸盐凝胶网络结构，提高了成膜质量。当n(n3PO4)：n(H2O2)：n(EtOH) n(SiO2)=O．49：0．52：30：l时，制各的 SiO2减反膜在可见光区平均透光率高达 98％，硬度可达6H。 关 键 词：SiO2水溶胶；磷酸；双氧水；Si—O—P桥键；减反膜 中图分类号：TB34 文献标识码：A StructureofAntireflectiveFilmswithSi——0——PBondsandImpact FactorsonItsPerformance WANGYan，WANGHong—Ning，CHEN Ruo—Yu (SchoolofPetroleumChemical，ChangzhouUniversity,Changzhou213164，China) Abstract：Anantireflective(AR)filmwassuccessfullypreparedbydip—coatingonsilicaglasssubstrate．During thepreparation，aqueouscolloidalsilica(ACS)wasusedassilicasource，orthophosphoricacidasadhesionpro— motingagentandhydrogenperoxideasactivatingagent．Thestructure，formationmechanism andperformanceof thefilm wereinvestigatedbyFTIR，XRD，FESEM ，TEM andAFM ．Thehydrogenperoxideinsilicasolrepairs thesurfaceSi一0 bondsofcolloidalsilicaparticlesgreatly．Asaresult，theirstabilitiesandreactionactivitiesare improved．Duringtheheat-treatmentofthefilm，theorthophosphoricacidisfirstlytransformedintothechainof metaphosphoricacidand subsequentlyreactedwithsurfaceSi——OH from colloidalsilicaparticlesand thesub-· strate，resulting inthe formation ofthenumerousSi-O—P cross—linkingsandthestablesilicophosphat