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Molacular dynamics study of the
microstructure and properties of Ni/Fe
deposition thin film
Candidate
Supervisor and Rank
Wang Tao
Chen Shangda Associate Professor
College
Program
Specialization
Degree
University
Date
Faculty of Material and Optoelectronic Physics
Condensed matter physics
Computional condensed mater physics
Master of science
Xiangtan University
May 10, 2010
II
湘潭大学
学位论文原创性声明
本人郑重声明:所呈交的论文是本人在导师的指导下独立进行研究所取得的
研究成果。除了文中特别加以标注引用的内容外,本论文不包含任何其他个人或
集体已经发表或撰写的成果作品。对本文的研究做出重要贡献的个人和集体,均
已在文中以明确方式标明。本人完全意识到本声明的法律后果由本人承担。
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学位论文版权使用授权书
本学位论文作者完全了解学校有关保留、使用学位论文的规定,同意学校保
留并向国家有关部门或机构送交论文的复印件和电子版,允许论文被查阅和借
阅。本人授权湘潭大学可以将本学位论文的全部或部分内容编入有关数据库进行
检索,可以采用影印、缩印或扫描等复制手段保存和汇编本学位论文。
涉密论文按学校规定处理。
作者签名:
导师签名:
日期:
日期:
年
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月
月
日
日
III
摘
要
随着科技的发展和新材料的应用,薄膜材料越来越成为人们研究关注的焦点。覆镍
钢带是一种在钢带上电镀镍镀层以期得到特殊性能的带材,其有很好的抗腐蚀性能、良
好的韧性以及优异的塑性。覆镍钢带经冲压后可应用于高性能锌-锰碱性电池外壳。在
现有的研究中,多数科研工作者集中地研究了此类带材的冲压性能以及抗腐蚀性能。在
研究其拉伸和冲压等力学性能的过程中发现,拉伸后的镍镀层表面粗糙度增大,并出现
起皱,其硬度及杨氏模量都有一定的减小,其原有织构的强度也有了变化。这些,都需
要从原子分子尺度对其成膜的最初形态进行考察,进一步了解在不同的制备工艺下,覆
镍镀层在成膜形态及内部微观结构上形成的差异。
本论文应用经典分子动力学方法,从分子原子的尺度上进行了沉积温度、原子入射
能量及入射角度等沉积条件对 Ni/Fe 体系物理气相沉积生长成膜影响的研究。在沉积温
度对成膜影响的研究结果中发现,沉积层在低的沉积温度下,首先形成连续膜,随沉积
温度的增大,镍原子沉积层形成连续模的进程变慢;在低的的沉积温度下,镍沉积层在
生长过程中形成的表面粗糙度较大,对应生长方式接近岛状生长方式,随沉积温度的升
高,转为层状生长方式,沉积层表面较低温下光滑;沉积镍原子在沉积过程中难以克服
基底的较高扩散能垒进入基底内部,而基底铁原子比较容易的扩散进入沉积层内,并且
沉积温度越高,扩散越明显;镍/铁沉积体系以非晶相为主,沉积温度越高,沉积 Ni 原
子层的非晶结构成分比例越大,但在低的沉积温度下,沉积层内有一定比例的理想 Ni
单晶生成,在高的沉积温度下,有 B2 结构的 NiFe 合金生成,并且随沉积温度的升高,
所含比例增大;在沉积能量对沉积成膜影响的研究结果中发现,低的沉积能量下,镍沉
积层首先形成连续膜,入射原子能量越高,形成连续膜的进程就越缓慢,并且低的沉积
能量下镍沉积层有较大的表面粗糙度,沉积能量越高,沉积层内空位缺陷浓度越低,也
越容易生成致密的光滑膜,随入射原子能量的加大,Ni 原子进入基底的深度也越深,但
在一定的沉积能量下,Ni 原子所能到达的深度存在一个阈值,在沉积 Ni 原子到达这个
阈值位置后,就再难进一步扩散基底更深层,在高的沉积原子能量下,沉积膜的晶体结
构性下降;在对铁/铁有角度沉积的研究中,我们发现入射角度的引入加大了沉积层表面
的粗糙度,沉积层呈岛状生长方式,并且随岛长大,岛与岛之间的空洞半径也在增大,
并且随入射角的增大更为明显,在大角度入射的条件下,有更多的空位及空位团蔟形成,
在垂直于沉积表面方向上的应变随沉积角度的增加而降低。
关键词: 分子动力学;镍/铁沉积薄膜;物理气相沉积;微观结构
I
ABSTRACT
As the development of technology and the application of the new materials, the thin film
materi
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