石墨烯的热化学修饰、图案化及拉曼表征.pdfVIP

Classified Index: O469 U.D.C: 535 Dissertation for the Master Degree in Science HEAT-INDUCED CHEMICAL MODIFICATION, PATTERNING OF GRAPHENE AND ITS RAMAN SPECTRA Candidate ： Guodong Gao Supervisor ： Prof.Sun Xiudong Academic Degree Applied for ： Master of Science Speciality ： Optics Affiliation ： School of Science Date of Defence ： June, 2014 Degree-Conferring-Institution ： Harbin Institute of Technology 万方数据 哈尔滨工业大学理学院硕士论文 摘 要 石墨烯作为人类能够制造的唯一一种单原子层二维纳米材料，在电学、光学、 力学、热学、生物学等诸多方面表现出优异性质。完美的石墨烯由于其导带和价带 在Dirac 点接触，呈现金属性，对其应用造成了很大限制。因此，打开石墨烯带隙 将其转变为半导体而且尽量保持其物理、化学性质，成为一个众多研究者关注的热 点。在本论文中，我们基于热化学反应对化学气相沉积沉积制备的单层石墨烯进行 了共价化学修饰，并进一步结合微接触印刷技术实现了石墨烯的图案化修饰。 首先，采用低压化学气相沉积系统在铜箔上生长得到了大面积、高质量单层石 墨烯。通过上百次的生长条件摸索，发现 CH4 （碳源）和H2 （载气）比例对生长 结果有着非常大的影响，CH 和H 比值太小无法得到大面积石墨烯，太大则石墨 4 2 烯质量下降，甚至得到双层石墨烯。同时，生长温度会显著影响石墨烯的质量，生 长温度越高，得到石墨烯质量越好。 然后，利用纳米转移技术将石墨烯转移到硅片上，对其进行了化学修饰，并用 拉曼光谱进行了表征。我们利用加热激发过氧化苯甲酰（BPO ）和石墨烯的反应， 安全、经济地对石墨烯进行了大面积修饰。研究了热化学反应对温度的依赖性，发 现反应最低温度为 75℃，85℃以上反应不均匀。测试了热化学反应的时间曲线， 表明反应分两个阶段：第一阶段，D*峰半峰宽、G 峰半峰宽增大，I /I 和I /I 增 D G D* G 大，2D 峰强度下降，D*峰、2D 峰蓝移增大，证明石墨烯中缺陷较少且逐渐增多； 第二阶段D*峰半峰宽、I /I 、I /I 曲线下降，证明石墨烯中缺陷较多且逐渐增多， D G D* G 但G 峰半峰宽减少，D*峰、2D 峰蓝移减小，2D 峰强度回升。 最后，结合热化学反应和微接触印刷技术实现了石墨烯的图案化修饰。首先在 石墨烯上印刷BPO 图案，然后加热激发反应，得到了700nm 宽条纹状修饰的石墨