氧气流量对磁控溅射制备AZO薄膜特性的影响.pdfVIP

氧 气 流 量 对 磁 控 溅 射 制 备 AZO薄 膜 特 性 的 影 响 范丽琴 赖发春 2 (1．华侨大学厦 门工学院 福建 厦门 361021：2．福建师范大学物理与光 电信息科技学院 福建 厦门 361021)) 中图分类号：0484．4 文献标识码：A 文章编号：1008—925X(2012)05—0067—03 摘要：利用直流磁控溅射方法在BK一≯基片上制备掺铝氧化锌(AZ0)透明导吧薄膜薯研究氧气流量对薄膜电学和光学性质的 影响，分析结构和光电学性质改变的机理。x射线衍射的结果发现’氧气浓度为o 衍射峰最强，且出现了新 的(102)和(110)衍射峰。实验结果表明，随着氧气流量的增加 电阻率(p)先减小后增大’在氧气浓度为0．5％时获得最低电阻 1．5×1073；所有样品在可见光区的平均光学透过率都在85％左右，在氧气浓度增到】．5％时可见光区的平均透射率达879 关键词：AZO 薄膜 磁控溅射。光电学性质 j lll 。 1．引言 量 ．测量的波长范围是 200～900nm。采用拟合透射光谱所有数据 透明导电薄膜已经广泛应用于太 阳能 电池 、液 晶显示器 、有 的方法 0f来计算薄膜 。用 vanderPauw方法㈣测量薄膜的方块 电 机和无机发光管等多种光电子元器件中ln【 目前商业使用的透明 阻和载流子迁移率()，并计算出载流子浓度(N)和电阻率(p)。 导 电薄膜材料基本上是掺锡氧化铟(ITO)．但是 ITO材料存在价 3．结果与讨论 格高以及钢有一定的毒性等缺点口：因此 ．近年来科学工作者不 3．1薄膜的沉积速率 断地寻找其它更好的材料 ，如氧化锌 、氧化锡等来替代 ITO，可是 纯的氧化锌不但电阻高．而且在高温时它的电阻也不稳定 。这时 掺杂 的氧化锌就显示 出它 的优势 ．而且掺铝氧化锌 (AZO)与 ITO 至 相 比有如下的优点 ．首先是氧化锌在 自然界 中很多且价格相对 呈 低 ．其次是氧化锌不含有毒性 ．再次是氧化锌在氢等离子体中很 量 稳定 。 暑 比 通常情况下，制备 AZO薄膜的方法有真空蒸发、化学蒸气沉 积、溅射等等 。在这些制备方法 中．磁控溅射是最常用 的方法之 一 它具有沉积速率高 、过程稳定、薄膜与基片的附着性能好 、 ， 化学成分容易控制等优点。但是 ．溅射过程的工艺因素 ．如溅射 功率 、氧气分压 、基片温度等等都会对沉积薄膜 的结构和光 电学 图3不 同氧气流量 的Azo薄膜的沉积速率 性质产生重要的影响。如：Chen等 『则研究了基片温度对溅射沉 图 3给出了AZO薄膜 的沉积速率 (R)随氧气浓度 (FO，)的变 积的AZO薄膜 的影响 发现250oC基片温度下制备的薄膜的电 化特性，由图可见 ，随着氧气浓度从 0％增加到 0．5％，R则从 阻率最小 ：而 Lee等 研究了溅射功率从 30W增加到 120W 对在 30nrdmin升高到 34nm／min．而且 R随P的增加是非线性增加 塑料基片上沉积 AZO薄膜的特性影响．发现薄膜的电阻率随着 的。(为什么会出现这种变化呢．可以参考我发表在中国光学快 溅射功率 的增加而减小 。Gupta等分析了薄膜厚度、氧气流量和 报上的文章，认真看懂 了，就知道原因。) 溅射功率等对制备薄膜 的电阻率和成分的变化情况 8[3 由此可 3．2薄膜的结构和形貌 见，AZO薄膜的性能与其制备的工艺条件参数密切相关 。因此 ． 在本文 中．作者利用直流磁控溅射方法制备 AZO薄膜 ．详细研究 氧气流量对