一种类富勒烯碳膜与不同偶件对摩时的摩擦学行为及其机制研究.pdfVIP

Vol. 28 No.4 摩擦学学报 第 28 卷第 4 期 2∞8 年 7 月 Tribology Ju1y 21∞s …种类富勒烯碳膜与不同偶件对摩时的 摩擦学行为及其机制研究 王霞1.2 ，王鹏1 气张斌12 ，杨生荣1 ，张俊彦1 (1.中国科学院兰州化学物理研究所固体润滑国家道点实验寞，甘肃兰州 73仪剧; 2. 中国科学院研究生院，北京 附则39) 摘要:采用磁控溅射钦靶，以甲烧和翻气为前驱体，在单晶破片表面制备了类商勒烯碳薄膜，采用高分辨率濡射电子 跟微镜对薄膜的微观形貌进行了表征，采用纳米服痕仪测定了薄膜的硬度及弹性回复，在球唰盘微摩擦试验机上考察 了溥膜与不同偶件(Si N Al 0 球、钢球)对燎的摩擦学行为.结果表明，薄膜具有类商勒烯结构特征，薄膜的硬度 球、 4 l 2 3 20.9 GPa，对应的弹性回复高达85%. 薄膜的摩擦性能与摩擦偶件相关:FL-C 薄膜与 Si Si 为 凡球对摩时磨屑在 叽 3 3 球接触阁克分辙盏，所形成的转移膜充当阴体搁滑剂而有效降低了摩擦系数;FL-C 精膜与钢球对摩时，由于钢球硬度 远低于FL-C 薄膜硬度，导致铜球在较高的接触应力下发生变形而使其表面粗糙度变大，摩擦系数增大，且 FL-C 薄膜 表团发生了较为强割的摩擦氧化反应，破坏了薄膜的原始结构，新生成的氧化聚合物结构较为疏松，在摩擦剪切作用 下扇子发生磨损. 关键词:英寓勒烯碳膜;摩擦学行为;转移膜;摩擦氧化反应 中圄分类号:TH1l 7.3 文献标志码:A 文章编号: 1α)4()595(2∞8 ) 04.()304-07 1980 年， lijima(l) 使用高分辨率避射电子显傲 单晶硅片[Si ( 1 ∞) ]囊团制备厚度为7∞ nm 的类 镜研究电弧放电法(真空、无保护气氛)制备的碳膜 富勒烯碳膜.先依次用两酣和乙醇趟声清洗单晶硅 时，观察到了间距约为0.34 nm 的同心圆环，并发现 片，后置于真~窍，沉积前将真空宽气压预抽至3x 10 -3 Pa. 制备条件为:C风流最为60 sccm， Ar 流最 其最内层小阔的直径约为0.71 nm，这就是通过片 屁石靡的帮曲和封闭而产生的洋慧、状富勒烯. 1995 为 120 sccm ，气压为0.4 阳，沉积功率约为1 创)() W, 年，Sj伽时m 利用磁控溅射法制备了非晶态 CN. 薄 基底偏应为由 800 V (频率 4. 1 kHz，占空比为 膜，利用高分辨率递射电子显微镜观察薄膜的微结 15%) ，沉积时间为 60 min. 在