Ni-W-SiC纳米复合电镀工艺研究.pdfVIP

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Ni—W—SiC纳米复合电镀工艺的研究 25 Ni—W—SiC纳米复合电镀工艺的研究 onNi—W—SiCNanometer Process Study Electrodeposition 王晋春1,程旭东1,李丹虹1,杨章富1,欧阳贵2 (1武汉理工大学材料复合新技术国家重点实验室,武汉430070; 2武汉材料保护研究所,武汉430030) WANG Jin-chunl,CHENG Xu—don91, LI Gui2 Dan—hon91,YANG (1State ofAdvanced for KeyLaboratory Technology Materials and of SynthesisProgressing,WuhanUniversityTechnology, Wuhan430070,China;2WuhanResearchInstituteof Materials Protection,Wuhan 摘要:采用一种新型的分散方法促使纳米SiC在镀液中的均匀有效分布。初步探讨了工艺参数对复合镀层的影响,着 其他工艺不变的条件下,选择适当的电流密度可制备出形貌良好、成分均匀、硬度较高的纳米复合镀层。 关键词:纳米复合电镀;共析量;表面形貌;显微硬度 中图分类号:TQl53文献标识码:A 文章编号:1001—4381(2006)03—0025—04 Abstract:Anew methodwas to n—SiCtoavoid effect disperse applieddisperse conglomerating.The of onthe was influenceofcathodiccur— processparametersnano—compositecoatingpresented.The rent onsurface amountandmicro— density morphology,sectionmorphology,n—SiCCO—deposition hardnessof was studied.Theresultshowsthat nano—compositecoatingmainly goodmorphology,n— and valueof SiC

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