MoSxMoSxMo纳米多层膜的制备及其环境摩擦学特性研究.pdfVIP

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2018-01-11 发布于未知
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2006 2006年7月润滑与密封 July LUBRICATl0NENGINEERING 第7期(总第179期) No．7(serialNo．179) MoS；／MoSx—Mo纳米多层膜的制备及其环境摩擦学特性8 郑晓华1居易1沈霞1 王运1 涂江平1何丹农2 (1．浙江大学材料科学与工程系浙江杭州310027；2．上海交通大学材料科学与工程学院上海200030) 摘要：用直流磁控溅射在钢基体上交替溅射制备了MoS。／MoS，一Mo纳米多层膜。采用划痕仪测试薄膜与基体的结合力；采用SEM和XRD分析了纳米多层膜的形貌和显微结构；在球-盘式微摩擦试验机上测试了纳米多层膜在真空和潮湿优取向减弱，纳米多层膜的结合力下降。溅射气压0．24Pa沉积的纳米多层膜在真空和潮湿空气中都呈现出最低的摩擦因数和磨损率，具有优异的环境摩擦磨损特性。．关键词：MoS。薄膜；磁控溅射；多层膜；沉积压力；环境中图分类号：TGll5．5文献标识码：A文章编号：0254—0150(2006)7一084-3 and Behaviorof Tribological Preparation MoSx／MoSx—Mo Nanoscale FilmsinD姐陌rentEnvironments Multilayer XiaohualJvYilShenXial YunlTu He Wang Dannon92 Zheng Jiangpin91 ofMaterialsScienceand University，HangzhouZhejiang310027，China； (1．Department Engineering，Zhejiang ofMaterialsScienceand 200030，China) 2．CoHege Engineering，ShanghaiJiaotongUniversity，Shanghai nanoscale filmswere onsteelsubstrate Abstract：MoS，／MoS。一Momuhilayer deposited alternatelyby atdifferent adhesiontosteelsubstratewastestedscratchtester．The and sputtering depositionpressures．The by morphology microstruetureofthe filmswerecharacterizedSEMandXRD．The were muhilayer by tribologicalproperties aball-on—disktribometerbothinvacuumandinhumidair．Resultsshowthattheadhesionofthenanoscale using