离子辅助沉积大口径传输反射镜面形控制研究.pdfVIP

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2018-01-21 发布于北京
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离子辅助沉积大口径传输反射镜面形控制研究.pdf

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第32卷第3期应用光学 V01．32No。3 of Journal 201l 2011年5月 AppliedOptics May 文章编号：1002—2082(2011)03-0545-06 离子辅助沉积大口径传输反射镜面形控制研究陈松林，马平，胡江川，胡建平，王震，罗晋 (成都精密光学工程研究中心。四川成都610041) 摘要：针对大型激光系统中光束质量低和波前畸变等特点，采用离子辅助电子束蒸发技术成功实现对多层膜残余应力的精确控制。通过分析氧化铪、氧化硅单层膜残余应力变化规律，研 mm×340mm× 究了离子源束压、束流参量对膜层折射率、残余应力性质及大小的影响。540 60mm规格大口径传输反射镜面形PV值达到O．5．=I(．=【=632nm)，小光束损伤测试情况下，样品元件的损伤阚值大于30J／cm2(N—on_1，1064nm，5ns)，利用该技术制备的大口径传输反射镜已获得成功应用。关键词：薄膜光学；面形控制；离子辅助；反射镜；损伤阈值中图分类号：TN205；0484．1 文献标志码：A Surfacecontrolfor ionassisted mirror shape large deposition CHEN Zhen，LUOJin Song-lin，MAPing，HUJiang-chuan，HUJian-ping，WANG Fine Research 610041。China) (ChengduOpticalEngineer Centre，Chengdu wavefrontin scalelaser，theresidualstressin Abstract：Toimprove qualitylarge multi-layer was ion—assisted@-beam onthe ofthe films controlled preciselyby evaporation．Basedanalysis residualstressvariationin and effectsofion-sourcebeam singleHf02layer Si02layer，the onrefractiveindex stressinfilms andbeamcurrent andresidual werestudied．ThePV voltage valueof540mm×340mm×60mmreflectivemirrorwascontrolledbelow0．52(A=632nm)． ofthe testedwithsmall—sizebeamwas than The threshold 30J／cm2 damage