[工学]第二讲 薄膜工艺导论.ppt

2.1 概述 薄膜是一种物质形态，它的膜材料十分广泛，可以用单质元素或化合物，也可以用无机材料或有机材料来制作薄膜。 近年来复合薄膜和功能材料薄膜有很大发展。成膜技术及薄膜产品在工业上有多方面的应用，特别是在电子工业领域占有及其重要的地位。它不仅成为一门独立的应用技术，而且成为材料表面改性和提高某些工艺水平的重要手段。 薄膜：在被称为衬底或基片的固体支持物表面上，通过物理过程、化学过程或电化学过程使单个原子、分子或离子逐个凝聚而成的固体物质。 厚度：10-1nm~10μm 本讲从成膜的的工艺原理出发，重点介绍真空蒸发镀膜、溅射镀膜以及离子镀膜等物理气相法和化学气相淀积等其他镀膜方法，同时对膜厚的测量和膜厚分布等也做适当的介绍。 2.2 真空蒸发镀膜 把待镀膜的基片或工件置于高真空室内，通过加热使蒸发材料气化（或升华）而淀积到某一温度的基片或工件的表面上，从而形成一层薄膜，这一工艺称为真空蒸发镀膜。在高真空环境中成膜，可防止膜的污染和氧化，便于得到洁净、致密、符合预定要求的薄膜，因此，这种方法得到了广泛的应用。 对所有沉积薄膜的系统而言，沉积速率的控制、较低的沉积温度、膜化学成分的控制为共同的目标。 2.2.1蒸发镀膜原理 1 蒸发镀膜设备 真空蒸发设备主要是由真空镀膜室和真空抽气系统两大部分组成。 真空镀膜室室用不锈钢或玻璃制成的钟罩。 蒸发镀膜 镀膜室内装有蒸发电极、基片架、轰击电极、测温罩和烘烤电极挡板转动装置、膜厚监测量头，以及一些辅助装置等。用不锈钢制成的钟罩上装有2～3个观察窗，大口径的钟罩还装有冷却水装置。有的钟罩还装有针阀，供离子轰击时调节室内所需要的压强，亦可作为镀膜室内的充气调节阀。不锈钢钟罩升降有丝杆传动和液压传动两种形式，钟罩升起后，有的可绕立柱转动。膜材放在蒸发电极相连的蒸发源上，基片或工件放置在基片架上。 蒸发镀膜 真空抽气系统主要由扩散泵、机械泵、高真空阀、低真空阀、充气阀及挡油器等组成。 机械泵与低真空电磁阀互锁，防止机械泵返油。高真空阀与磁力充气阀互锁，防止因高真空阀未关而充入大气时处于高温状态的扩散泵油氧化。 扩散泵断水有报警信号，测量真空度用复合真空计。真空抽气机组可使镀膜室内的压强达到10－3～10－6Pa范围，以防镀膜室内高温物体的燃烧和膜的氧化等。 蒸发镀膜 蒸发镀膜的基本过程如下：关闭充气阀和高真空阀等阀门，通过图1－1中A－B右路系统对钟罩进行预抽气。当压强达到1～10Pa后，关闭真空阀，打开高真空阀门，通过A—C－B左路系统用高真空机组进行抽气。一旦钟罩内的压强达到所需的数值后，便可对蒸发源加热进行镀膜。镀膜结束后关闭关闭高真空阀门，通过充气阀向钟罩内放气。然后打开钟罩，取出镀好的基片或工件，从新装入膜料，更换待镀基片或工件，放下钟罩。可重复以上步骤，再次进行蒸镀。 2 真空度的确定 真空蒸镀时，为了保证成膜的质量，镀膜室内的压强应尽可能低。但是，在高真空下欲使压强再进一步降低，往往需要花较长时间，这是不经济的。因此正确选择蒸发镀膜的起始压强，对于提高生产效率、保证成膜质量有着重要的作用。 3 蒸发温度 蒸发时膜料加热温度的高低将直接影响薄膜的形成速率和薄膜的质量，为了达到迅速蒸发镀的目的，通常将蒸发物质（膜料）加热，使其平衡蒸气压达到几帕（约10－2Torr）以上，称这时的温度为蒸发温度。 通常材料的蒸气压p与温度T之间的近似关系为 2.2.3 蒸发源的类型 蒸发源是用来使膜料气化蒸发的加热部件。目前使用的蒸发源主要有以下几类。 1 电阻加热蒸发源 电阻加热蒸发源使用高熔点金属（钨、钼、钽）做成的，其结构如图1－4所示。用蒸发源来存放膜料，利用大电流通过加热器时产生的焦耳热来加热膜料使其蒸发，通常用于蒸发温度小于1500度的铝、金、银等金属，以及硫化物、氟化物、某些氧化物。由于这种蒸发源具有结构简单、使用方便、造价低廉等优点，因此使用很普遍。 1 电阻加热蒸发源 2 电子束加热蒸发源 电子束加热蒸发源利用电子束集中轰击膜料的一部分而进行加热。它由热阴极、电子束加速极和阳极（膜料）等组成。 电子束蒸发源的特点是：能量可高度集中，使膜料的局部表面获得很高的温度；能准确而方便地控制蒸发温度；而且有较大的温度调节范围。因此它对高、低熔点的膜料都能适用，尤其适合蒸镀熔点高达2000度左右的氧化物。 此外，不需要直接加热坩埚，又可通过水，因此避免了坩埚材料对膜料的粘污。 但是，多数化合物受到电子束轰击与加热时会部分分解，同时由于残余气体分子和膜料分子（或原子）会部分的被电子所电离，将对膜料的结构和物理性能产生影响。此外，它的体积较大，需要调整的部分也较多，故限制了它的广泛应用。 2 电子束加热蒸发源 3 激光蒸发源 激光蒸发源将激光束作为热源来加热膜料，通过聚焦可使激光束功率达到10