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基于TSMC55工艺ELC流程 　　摘要:相对于TSMC65纳米工艺,TSMC55纳米工艺提供了更小的面积、更快的速度。ELC不仅可以检查厂商提供的65纳米标准单元库,还可以产生相应的55纳米标准单元库。本文首先介绍了ELC特征化技术原理,在没有相应ARM55标准单元库的情况下,通过对ARM65标准单元库进行ELC特征化流程,得到速度更快的ARM 55标准单元库。并将其应用在实际的设计中进行综合,综合结果与厂商提供的经验值一致。 　　关键词:ELC,GDS,Shrink 　　 　　ELC process with TSMC55 technology 　　 　　MENG Shao-peng, MA qiang 　　(East China Research Institute of Electronic Engineering, Hefei 230031,China) 　　 　　Abstract: Compared with TSMC 65 nm technology, TSMC 55 nm technology can provide smaller area and higher frequency. ELC (Encounter Library Characterization) not only can check the 65nm standard cel