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MOSFET管应用研究

MOSFET管应用研究   摘 要   SiC是一种新型的功率器件,来近几年广泛的运用于高温高频开关工作,相关的研究工作进展十分迅猛。笔者主要研究MOSFET管的特性以及参数,并通过能够适应宽范围温度的仿真模型进行模拟,对MOSFET单管的应用进行研究,分析了MOSFET对驱动电路的要求。最后根据MOSFET的工作原理进行应用分析,列举若干MOSFET管的常见应用。   【关键词】MOSFET 碳化硅 驱动电路 模型   半导体材料在电子行业占据着重要地位,广泛运用于工业、医疗等领域。随着科学技术的进步,以及对工作频率的要求的不断提升,MOSFET的问世为解决更高功率等级问题提供新思路。MOSFET得到了广泛的关注,并逐渐形成了Si MOSFET 和 SiC MOSFET两种主要形式。由于后者相比前者导通电阻更低,高温稳定性能更强,应用前景更加广泛,所以笔者在本文主要就SiC MOSFET展开分析。   1 MOSFET结构及原理   MOSFET的原意是:MOS(Metal Oxide Semiconductor金属氧化物半导体),FET(Field Effect Transistor场效应晶体管),即以金属层(M)的栅极隔着氧化层(O)利用电场的效应来控制半导体(S)的场效应晶体管。相比传统的Si MOSFET,SiC MOSFET有更多优点,但是高昂的价格是限制其广泛运用的关键因素。近年来SiC技术得到了飞速的发展,生产成本不断降低,因此也加大了Sic MOSFET的应用前景,有望成为主流的功率器件。在实际运用中,必须对MOSFET的静态特性和功率损耗进行模拟研究,这样才能完整、科学地评价整个系统。目前国内外相关工作人员针对MOSFET的建模已经有了很多成果,但是基本都是进行的物理特性建模,对于实际运用的研究价值不高。MOSFET对驱动电路有较高的要求,安全阈值十分小,因此这也是限制MOSFET广泛运用的重要原因。   目前投入应用的MOSFET主要分为结型以及绝缘栅型,后者的MOS型是应用热点,我们简称其为功率MOSFET。功率MOSFET的主要特点是能够利用栅极电压对漏极电流进行控制,驱动电路结构比较简单,所需的驱动功率不大,开关速度响应快,工作频率高,但是缺点是电流容量较小,耐压性能不佳。MOSFET根据导电沟道进行分类可以分为P沟道以及N沟道。根据栅极电压幅值进行划分可以分为耗尽型和增强型。功率MOSFET多采用N沟道增强型。MOSFET有三个工作区:非饱和区(可变电阻区)、饱和区(恒流区)和截止区。当MOSFET导通时,仅一种多子用于导电,则是单极型晶体管,MOSFT几乎都采用垂直导电的结构,故而也常称作VMOSFET。MOSFET的工作原理是通过在漏源极间加上正电源,栅源极间的电压为0。栅极是绝缘的,因此无栅极电流通过。但是栅极正电压将把P区里的空穴推开。   2 建模方法研究   以往研究MOSFET时多采用的建模方法主要是物理模型法和等效电路法。前者根据固体物理理论,以半导体方程式的形式描述MOSFET的物理性质,然而此种方法计算量巨大,运用于工程实际效果不佳。等效电路法以MOSFET的外特性作为研究对象,以电路的形式对器件进行简化,因而可以以基本单元对外特性进行描述,此类方法有较多经验公式可以使用,对于工程实际运用有更高的效率,其中PSpice就是基于此建模方法的模拟软件。   PSpice软件中的Model Editor模块极大地简化了MOSFET建模过程,Model Editor给用户提供3种MOS模型,即MOS1、MOS2和MOS3。MOS1最为简单直观,参数设定十分清晰,学习成本较低,但是这种模型忽略了电荷储存效应,仿真精度较低。MOS2模型相比MOS1则将短沟道效应考虑在内,以几何图形作为分析对象搭建模型,对电荷储存效应也有一定的分析作用。MOS3则是基于本经验模型的,运算量有了很大的简化,通常所需的外特性曲线参数提取法都运用到此种模型。MOSFET建模通常需要参数微调,提高模型适用性。   MOSFET静态特性模型主要由单元M1、提二极管、导通电阻以及温控电压源电流源组成。为了提高模型的精度,笔者并没有采用体二极管的参数,而是用独立的二极管模型对二极管进行描述。根据技术手册可以获得转移特性曲线,然后Model Editor从中提取出沟道宽度和KP。   MOSFET动态特性模型主要是为了得到其开关特性,该特性主要由寄生电容确定。MOSFET管的寄生电容与电压是非线性的函数关系,不影响建模精度的情况下,可以忽略温度对电容的影响。   3 MOSFET管应用电路   众所周知,MOS管突出的优点就是开关性能良好,因此在对电子开关有需求的电路中得到较为广泛的应用,比如

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