国产注射用氨苄西林钠杂质谱及生产工艺探究.docVIP

国产注射用氨苄西林钠杂质谱及生产工艺探究.doc

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国产注射用氨苄西林钠杂质谱及生产工艺探究

国产注射用氨苄西林钠杂质谱及生产工艺探究   【摘要】目的:在研究的过程中对注射用氨苄西林钠杂质谱和不同的生产工艺进行研究和对比。方法:采用不同的检测氨苄西林钠相关的方法进行有效的检测,同时还要严格的进行破坏性试验,同时还要对各种杂质进行有效的检测和辨别。按照190批次注射用氨苄西林钠的各种检验结果为主要的依据,对不同的生产工艺所生产出来的药品进行检验,从而能够更好的了解产品当中杂质的具体成分和含量。结果:溶媒结晶样品中的杂质含量是最少的,同时在杂质的数量上也要明显少于其他样品,在所有的样品中,杂质含量最多的就是喷雾干燥样品。结论:样品当中的杂质含量和原料具体的生产方法存在着一定的联系,在所有的影响因素当中,产品的生产工艺是影响其杂质数量和种类的最为重要的因素。   【关键词】注射用氨苄西林钠;杂质谱;生产工艺;相关性研究   【中图分类号】R927 【文献标识码】B【文章编号】1004-4949(2015)02-0653-020   氨苄西林钠是率先应用于临床治疗的光谱半合成青霉素药品,这种药物对很多细菌的抑制作用机理和青霉素是非常类似的,这种药物可以治疗因为细菌导致的各种感染性疾病,当前,生产氨苄西林钠的工艺主要有三种,一种是溶媒结晶法,一种冷冻干燥法,最后一种方法是喷雾干燥法,相关的研究表明溶媒结晶方法在氨苄西林钠生产中的优势更强,本文主要对氨苄西林钠生产的相关工艺进行研究。   1、仪器与试剂   高效液相色谱仪,包括LC-10ADvp泵,SPD-10A紫外检测器,SIL-10AXL型自动进样器,色谱工作站。电子天平。三重四极杆质谱仪,配备电喷雾电离源(ESI)以及数据处理系统。   氨苄西林对照品(批号130410-200706,含量85.7%)、氨苄西林系统适用性对照品(批号130618-201001)和苯甘氨酸对照品(批号130415-200904)由中国食品药品检定研究院提供。190批次注射用氨苄西林钠(其中溶媒结晶样品46批次,冷冻干燥样品84批次,喷雾干燥样品60批次)均为2014年国家药品评价抽验样品,分别由国内15家企业生产。乙腈为色谱纯,水为超纯水,其余试剂均为分析纯。   2、实验方法   按照中国药典2010年版二部氨苄西林钠有关物质的测定方法,对190批次样品的有关物质进行测定,利用氨苄西林系统适用性对照品、苯甘氨酸对照品定位杂质峰,利用质谱技术推断未知杂质,并归纳总结得到杂质谱;比对不同工艺样品中杂质的个数及含量;同时经酸、碱、光、氧化、高温破坏试验对各杂质溯源。   液相色谱条件:色谱柱为C18柱(自装,日本产富士填料);流动相A为12%醋酸溶液-0.2mol检出的杂质与氨苄西林系统适用性对照品色谱图比对,结构已知的杂质有氨苄西林噻唑酸(杂质5)、二酮哌嗪-2(R)氨苄西林(杂质7)、氨苄西林开环二聚体(杂质8)、氨苄西林闭环二聚体(杂质10)和氨苄西林开环三聚体(杂质13);通过与苯甘氨酸对照品的保留时间和UV光谱特性的比较,证明喷雾干燥产品中独有的2号杂质为苯甘氨酸;但样品中的另一较大杂质(杂质12)并非系统适用性对照品中标注的已知杂质。鉴于其极性较小、保留时间大于二聚物等特征,初步推断为氨苄西林三聚物。收集该色谱峰的流出液、经固相萃取小柱浓缩洗脱后注入质谱仪进行确证,可见[M+H]+为1048的分子离子峰及[M+H]+为350的碎片离子峰。1048为闭环三聚体的分子离子峰,350为氨苄西林的分子离子峰,一分子闭环三聚体由一分子氨苄西林和两分子氨苄西林噻唑酸组成,根据青霉素类抗生素的质谱裂解规律,可以确证该色谱峰为氨苄西林闭环三聚体峰。   对3种不同工艺样品中的各杂质的含量进行比较,发现批号相近的溶媒结晶样品中的杂质量远小于其他2种工艺样品;不同工艺样品中最大杂质均为10号氨苄西林闭环二聚体,冷冻干燥样品的闭环二聚体最大;国产氨苄西林钠中的其他较大杂质还有氨苄西林噻唑酸、二酮哌嗪氨苄西林、闭环三聚体等。通过对酸、碱、光、氧化和热加速试验样品及放置24h的溶液的检测表明,氨苄西林钠中14个杂质中的10个可在不同的条件下降解产生:1、3、6和11号杂质在各种加速实验条件下均无明显变化,推测为工艺杂质;2、4、5、7、8、9、10、12、13和14号杂质为降解杂质。   3、实验结果   将190批次样品中的氨苄西林二聚物(闭环二聚体)、其他单个最大杂质(除闭环二聚体外)、其他总杂质(除闭环二聚体外)的检验结果和生产企业提供的原料药生产工艺等通过SPSS18.0统计软件进行多因素相关分析,结果表明:原料药生产工艺与样品中的氨苄西林二聚物、其他单个最大杂质、其他总杂质等均显著相关(P0.01),说明原料药生产工艺是影响产品杂质的重要因素。   4、讨论   相关

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