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γ-TiAl双辉等离子渗钽工艺及改性层性能研究-材料加工工程专业论文
承诺书
本人声明所呈交的硕士学位论文是本人在导师指导下 进行的研究工作及取得的研究成果。除了文中特别加以标注 和致谢的地方外,论文中不包含其他人已经发表或撰写过的 研究成果,也不包含为获得南京航空航天大学或其他教育机 构的学位或证书而使用过的材料。
本人授权南京航空航天大学可以将学位论文的全部或 部分内容编入有关数据库进行检索,可以采用影印、缩印 或扫描等复制手段保存、汇编学位论文。 (保密的学位论文在解密后适用本承诺书)
作者签名: 日 期:
南京航
南京航空航天大学硕士学位论文
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γ-TiAl 双辉等离子渗 Ta 的工艺及改性层耐蚀性能研究
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摘 要
与传统高温合金相比,γ-TiAl 具有密度低,比强度、比模量相对较高的优势,被公认为最 有发展前景的高温结构材料之一。但是 γ-TiAl 在 700℃以上抗氧化性能仍亟待提高,并且在强 还原性介质中会发生严重的局部腐蚀或全面腐蚀,这些缺陷限制了其应用。本课题提出采用双 层辉光等离子渗金属技术,在 γ-TiAl 表面制备钽改性层,显著提高其抗高温氧化及耐蚀性能。
经过正交实验获得最佳工艺参数,所制备的 Ta 改性层厚度约为 25μm,与基体结合良好, 结合力达到 60N。表面改性层主要物相为 α-Ta,并且表面显微硬度达到 415.36HV0.3。Ta 改性 层的纳米硬度达到 448.4DHT115,相对于基体有明显的升高,弹性模量为 2.29×105Mpa,相对 于基体明显降低说明具有较好的变形能力以及较好的抗塑性变形的能力。
TiAl 基体与 Ta 改性层的高温抗氧化性能测试实验分别在 750℃、800℃和 850℃下进行。 TiAl 合金渗 Ta 后试样表面的氧化产物以 Ta2O5、AlTaO4 等混合氧化物为主,氧化膜堆积致密无 孔洞,氧化动力学曲线基本符合 Wagner 抛物线氧化规律,合金的抗氧化性能得到提高。
电化学腐蚀实验分别在 10wt%和 20wt%HCl 溶液及 10wt%和 40wt% H2SO4 溶液中进行,结 果表明 Ta 改性层表面形成的 Ta2O5 膜具有优越的耐腐蚀能力,能有效阻止 Cl-的进入,并且具 有一定粘附作用,可以使原本松散的 TiO2 钝化膜保持完整连续,因此其抗腐蚀性能得到提高。 熔盐腐蚀实验表明,改性层表面形成一层坚固的 β-Ta2O5 与 AlTaO4 复杂氧化物保护膜,拥有良 好的热稳定性以及耐腐蚀性能,从而很好的保证了氧化膜的完整性和保护性,能有效地阻止硫、 氯和氧元素的入侵,提高了改性层的耐腐蚀性。
关键词:双层辉光等离子渗金属技术,Ta 改性层,高温氧化,电化学腐蚀,熔盐腐蚀
ABSTRACT
Compared with traditional high temperature alloy, ?-TiAl alloy possesses advantages of low density, relatively high specific strength and modulus. It is recognized as one of the most promising high temperature structure material. However, its poor oxidation resistance at temperatures above 700 °C needs to be improved, so does its shortage of the corrosion resistance in strong reducibility medium. These deficiencies severely limit its wider application. In this paper, a Ta modification layer was fabricated by double glow plasma surface alloying technology which can provides an effective way to improve the surface performance of metal. The addition of Tantalum can significantly improve the corrosion resistance of ?-TiAl alloy. The optimum process parameters obtained from the orthogonal experiment. The Ta modification layer had a thickness of
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