超声场中电沉积Co基合金镀层及相关工艺参数预测模型的建立-控制工程专业论文.docxVIP

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超声场中电沉积Co基合金镀层及相关工艺参数预测模型的建立-控制工程专业论文

超声场中电沉积 Co 基合金镀层及相关工艺参数预测模型的建立 中文摘要 超声场中电沉积 Co 基合金镀层及相关工艺参数 预测模型的建立 中文摘要 金属 Cr 镀层由于其耐磨损、耐腐蚀、硬度高,从而备受人们青睐。但电沉积 Cr 过程中存在的 Cr6+对环境污染严重,使得其应用受到限制。因此,寻找一种可替代金 属 Cr 且各性能优异的合金镀层得到了业界广泛关注。在此背景下,本文以超声场电 沉积 Co 基合金及其工艺优化为研究主题,以期制备出新型“替代 Cr 镀层”。主要 工作有:首先,分别在不同条件下电沉积制备 Co-Ni 和 Co-W 两种合金镀层,并通过 SEM 和 XRD 分析合金镀层的表面形貌、元素组成和相结构;而后,测量镀层的表面 硬度,并通过测试合金镀层的极化曲线及交流阻抗表征样品的耐蚀性;最后,在电沉 积工艺参数和合金镀层性能之间建立 BP 神经网络模型,以预测不同工艺参数下所制 备的合金镀层的性能以及在指定性能指标下对应的电沉积工艺参数。主要研究结论分 为以下 4 部分: (1) 对比静态和超声场辅助下电沉积 Co-Ni 合金镀层的影响。结果表明:① Co-Ni 合金镀层的 Co 含量和晶粒尺寸随沉积电流密度的升高而降低,超声场辅助电沉积促 进 Co-Ni 合金镀层中 Co 含量和晶粒尺寸的进一步降低。②相比静态作用下 Co-Ni 合 金镀层表面出现的裂痕及凸起,超声场辅助下合金镀层表面更加平整。③超声场有助 于提高合金的硬度及耐蚀性。 (2) 超声场频率对电沉积 Co-Ni 合金镀层的影响。结果表明:①随超声场频率的 增加合金镀层中 Ni 含量及晶粒尺寸随之降低。②合金镀层的硬度随频率的增大而增 大,但当频率达到 120kHz 时,即晶粒尺寸最小时,合金镀层的硬度反而出现了下降 的情况。③合金镀层的耐蚀性与超声场频率并非简单的正、负相关关系。最终在频率 为 55kHz 的条件下获得耐蚀性最优的合金镀层。 (3) 超声场功率对电沉积 Co-W 合金镀层的影响。结果表明:①随着超声场功率 的升高,合金镀层中 W 含量随之增加,镀层中晶粒不断细化。②超声场功率为 130 W I II II 中文摘要 超声场中电沉积 Co 基合金镀层及相关工艺参数预测模型的建立 时,Co-W 合金镀层的硬度最大。③超声场功率为 100W 时,合金镀层在 3.5wt.%NaCl 溶液中的耐蚀性最强。 (4) BP 神经网络模型预测。在电沉积工艺参数与合金镀层的性能之间建立单层 BP 神经网络模型,将不同电流密度及超声场频率下制备的不同硬度及不同 Ni 含量的 合金镀层作为参考样本,训练并确定网络中权值及阈值。以该模型作为蓝本以期预测 不同工艺参数下合金镀层的性能以及指定性能下对应的电沉积工艺参数。 关键词: Co-Ni 合金;Co-W 合金;电沉积;超声场;BP 神经网络 作 者:吕臣凯 指导教师:于学斌、盛敏奇 ElectrodepositionofCo-basedalloyunderultrasonicirradiationandpredictionmodelfordepositionprocess Abstract Electrodeposition of Co-based alloy under ultrasonic irradiation and prediction model for deposition process Abstract Cr coating gets the popularity for a long time due to high wear resistance,corrosion resistance and hardness. But Cr6+ which is serious to the environment pollution in the process of electrodeposition is restricted by many countries. Therefore, a new coating is in dire need which performs excellent all-round properties. In this background,this article prepare the new alternative Cr coating assisted by ultrasound combined with BP neural network. The main work includes: firstly, preparing Co-Ni and Co-W alloy coating under diff

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