富g核酸模板引导纳米材料的制备及应用研究化学工程与技术;生物化工专业论文.docxVIP

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富g核酸模板引导纳米材料的制备及应用研究化学工程与技术;生物化工专业论文

mII mII I I II I I It t t ll lit III \1 9259 1 3 独创性声明 本人声明所呈交的学位论文是本人在导师指导下进行的研究工作和取得的 研究成果,除了文中特别加以标注和致谢之处外,论文中不包含其他人已经发表 或撰写过的研究成果,也不包含为获得苤注盘堂或其他教育机构的学位或证 ▲ 书而使用过的材料。与我一同工作的同志对本研究所做的任何贡献均己在论文中 作了明确的说明并表示了谢意。 ◆ 学位论文作者签名:关P劲:誉 签字日期: ≯。『D 年刁月g日 ,,‘¨:。‘··‘ 学位论文版权使用授权书 本学位论文作者完全了解 苤洼盘堂有关保留、使用学位论文的规定。 特授权苤凄盘堂可以将学位论文的全部或部分内容编入有关数据库进行检 索,并采用影印、缩印或扫描等复制手段保存、汇编以供查阅和借阅。同意学校 向国家有关部门或机构送交论文的复印件和磁盘。·. r1 (保密的学位论文在解密后适用本授权说明) ‘ 学位论文作者签名:每捌跻\ 导师签名: 禚利 签字日期:∞『口年弓月矿日 签字日期却。年夕月护日 -……?咱fIì-tJ4 -…… ? 咱fIì - 中文摘要富G核酸作为一类独特的DNA分子能够形成基于Hoogsteen氢键的多态 中文摘要 富G核酸作为一类独特的DNA分子能够形成基于Hoogsteen氢键的多态 G.四链体结构,因而在纳米材料合成、组装领域具有广泛的应用前景。但是目前 各种组成的富G核酸的结构纷繁复杂,各种调控因素更是作用多样,利用G.四 链体进行纳米材料组装及应用的研究还很不深入,有待拓展。本文利用富G核 ‘▲ 酸作为模板引导了长程有序纳米结构氧化硅,银纳米颗粒以及氧化钛晶态薄膜的 生长。 ,◆ 首先依据四膜虫端粒序列G4T4G4设计了一系列5’端依次相差一个鸟嘌呤碱 、、} 基的富G序列:G2T4G4,G3T4G4,G4T4G4,利用圆二色光谱、电泳、原子力显 微镜以及表面增强拉曼光谱等方法研究,发现三个富G核酸在Na+条件下都形成 二聚反平行G.四链体,稳定性依次升高,结构对称性依次增强,共溶剂乙醇对 其构象影响程度依次减弱。G2T4G4表现出良好的自组装特性以及易调控性, pH=2.0和pH=4.0时使得G2T4G4形成单链结构,K+使其形成平行、反平行共存 的G.四链体结构,Ba2+则使其形成多链聚集的G.四链体结构。利用该不对称组 成的G2T4G4作为模板,与有机硅源.氨丙基三甲氧基硅烷相互作用,Na+条件下 模板从二聚反平行G.四链体转变为多链聚集体,从而引导叶脉状分枝氧化硅结 构形成,通过原子力显微镜以及透射电子显微镜进行了表征。利用溶液环境的改 变影响G2T4G4的组装结构可以调控氧化硅组装结构,在pH 2.0条件下,单链 G2T4G4引导形成无规则的颗粒状聚集体;40%,(v/v)乙醇水溶液环境引导更小 粒径,更短间距的叶脉状分枝结构形成:而Ba2+条件下,则引导棒状结构的氧化 硅生成。 其次设计了一系列的多态DNA模板,包括AsGl2形成的G.四链体,C12T8 形成的I-motif,以及AsGt2/C12T$l:l混合形成的双链,利用圆二色光谱,电泳结 合密度泛函理论研究Ag+与多态DNA的相互作用,确定不同DNA构象与Ag+ ._.:。慷 结合模式:G.四链体与Ag+的第一种结合模式,在两个G.平面之间与8个06原 子作用;第二种结合模式,在鸟嘌呤的N3位置:I-motif与Ag+的结合在CC错 配碱基对之间。加入NaBI-h还原Ag+,得到依赖于DNA构象的尺寸分布在1.6 nm.3.9 nm,不同晶面组成以及荧光特性的Ag纳米颗粒。将多态DNA模板诱导 生长的Ag纳米颗粒应用于催化硝基转化为氨基的反应,I-motif模板诱导的Ag 纳米颗粒显示出最优的催化活性,催化对硝基苯酚转化时,Ag浓度为3.60 mg/L 时,k为1.880 rain~;催化对硝基苯甲酸转化时,Ag浓度为0.720 mg/L时,l‘a 、?喝U,, 、 ? 喝 U J htR AV 唱4哑 ?.?、 ? 即达到2.503 即达到2.503 min~。 最后通过表面羟基化的单晶硅基底组装APTMS单层膜,戊二醛偶联剂与 APTMS单层膜表面的氨基以及DNA末端修饰的氨基交联,固定G.四链体以及 双链模板,在10 mM TiCl4/0.05 M HCI前驱体溶液中,40 oC下沉积48 h诱导 T.02晶态薄膜生长。通过拉曼光谱以及透射电子显微镜分析确定,G.四链体模 板诱导得到无定形.锐钛矿混合的Ti02薄膜,双链结构则诱导得到无定形.锐钛矿 ·金红石混合的Ti02薄膜。作为对比,利用表面带磷酸基团的自组装膜,在5 mM TiCl4/0.1 M HCI

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