半导体工业废水废气中砷磷硫氟氯及氮氧化物和重金属的综合.PDFVIP

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2019-03-30 发布于天津
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半导体工业废水废气中砷磷硫氟氯及氮氧化物和重金属的综合.PDF

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第 11 期电　　子　　学　　报 Vol . 28 　No . 11 　2000 年 11 月 ACTA ELECTRONICA SINICA Nov . 　2000 　半导体工业废水、废气中砷、磷、硫、氟、氯及氮氧化物和重金属的综合治理闻瑞梅 ( 同济大学 ,上海 200092) 　　摘　要 : 　本文介绍了在半导体工业废水、废气中砷、磷、硫、氟、氯及氮氧化物、重金属及各种酸的综合治理方法、工艺流程和设备 ,用中和絮凝沉降一体化装置 ,利用共生沉淀的原理处理废水. 用椭圆型喷淋吸收塔 ,氧化剂、碱吸收治理半导体工业废气中砷、磷、硫、氟、氯、氮氧化物及各种酸. 经环保部门检测均达到国家排放标准. 关键词 : 　半导体 ; 废水 ; 废气 ; 治理中图分类号 : 　TN30405 　　　文献标识码 : 　A 　　　文章编号 : (2000) A Co mprehen sive Abat ement Technolo gy for Ar sine ,Pho sp horu s , Sulfur ,Fluorine ,Chlorine ,Oxynitride s and He avy Met al s in Semiconductor Indu stry Wa st e Wat er and Ga se s WEN Ruimei ( Tongj i Univeristy , Shanghai 200092 , China) Ab stract : 　A comprehensive technology including flow chart and setup was described for pollution control of arsine ,phosphorus , sulfur ,fluorine ,chlorine ,oxynitrides ,heavy metals and various acids in semiconductor industry waste water and gases. The waste water was treated in a combined neutralizationsedimentation setup based on the principle of codeposition . A dual absorbing towershower containing oxidant and alkaline absorbant was used for removing arsine ,phosphorus ,sulfur ,fluorine ,chlorine and oxynitrides. After a batement the concentration of pollants analyysed by Environmental Administration meets the State Standard of Emission . Key word s : 　semiconductor ;waste water ;waste gases ;abatement 1 　引言