磷化铟微纳光学阵列元件的约束刻蚀加工研究-材料物理与化学专业论文.docxVIP

南昌航空大学硕士 南昌航空大学硕士学位论文 Abstract PAGE PAGE IV been obtained on the surface of n-InP. For the micro-optical convex lens mode which was 102.91 μm in diameter and 10.757 μm in height, the machining precision along the height was about 0.99 μm and its relative error was about 0.9% .The machining precision along the radius was about 0.44 μm and its relative error was about 4.1%. The experiments showed that submicron resolution could be achieved on the surface of InP by CELT duplicating processing for micro-optical elements. It shows that CELT is a promising method for fabricating complex three-dimensional micro-structures for micro optical use. Keywords: Confined Etchant Layer Technique; Micromachining; Micro-optical lens array; Semiconductor; Electrochemical machining 南昌航空大学硕士 南昌航空大学硕士学位论文 目录 目 录 摘要I ABSTRACT II 目录 IV 第 1 章 绪论 1 1.1 微系统介绍 1 1.2 现代微细加工技术 3 1.2.1 微细加工技术的分类 3 LIGA 技术 4 硅基 MEMS 加工技术 6 1.2.4 微接触印刷技术 8 1.2.5 EFAB 技术（Electrochemical Fabrication 的简称） 10 1.2.6 超短电位脉冲电化学微加工技术 11 1.2.7 扫描电化学显微镜技术（SECM） 12 1.2.8 扫描探针显微镜技术（SPM） 13 1.3 约束刻蚀剂层技术（CELT） 14 1.3.1 当前微加工方法的总结 14 1.3.2 约束刻蚀剂层技术简介（CELT） 15 1.4 本论文的目标及设想 16 第 2 章 实验部分 18 2.1 实验材料以及试剂 18 2.1.1 实验所用到的化学试剂 18 2.1.2 被加工材料 18 2.1.3 其它实验装置以及实验材料 19 2.2 工作电极的制作 19 2.2.1 微圆柱电极的制作方法 19 2.2.2 PMMA/Ti/Pt 模板电极的制作 20 2.2.3 PMMA 纳米热压印复制过程 21 2.2.4 PMMA/Ti/Pt 模板电极的制作 21 2.3 电解池 22 2.4 超精密电化学微加工系统 23 2.4.1 仪器的组成及其性能 23 2.4.2 电化学微加工操作步骤 26 2.5 磷化铟表面的电接触点的化学镀镍 27 2.6 微结构表征方法简介 27 2.6.1 金相显微镜 27 2.6.2 扫描电子显微镜（SEM） 28 2.6.3 原子力显微镜（AFM） 28 第 3 章 磷化铟的约束刻蚀机理研究 29 3.1 前言 29 3.2 刻蚀体系的筛选 30 3.3 HNO3 体系对磷化铟刻蚀动力学研究 31 3.3.1 刻蚀速率的腐蚀失重法测定 31 3.3.2 塔菲尔曲线的测量以及电化学腐蚀速率的计算 34 3.3.3 捕捉剂的筛选 34 3.3.4 HNO3/HCl/H2O 刻蚀的原理 35 3.4 Br2 体系对磷化铟刻蚀动力学研究 36 3.4.1 Br2 相关刻蚀体系的前期筛选 36 3.4.2 捕捉剂的筛选 36 3.4.3 利用 Br2/HCl/L-胱氨酸体系对 N 型磷化铟进行 CELT 加工的原理 38 3.5 本章小结 38 第 4 章 磷化铟刻蚀体系的筛选及优化 39 4.1 前言 39 4.2