常用抛光方法.docVIP

目前常用的抛光方法 目前常用的抛光方法有以下几种： 1.1 机械抛光 机械抛光是靠切削、材料表面塑性变形去掉被抛光后的击部而得到帄滑面的抛光方法，一般使用油石条、 羊毛轮、砂纸等，以手工操作为主，特殊零件如回转体表面，可使用转台等辅助工具，表面质量 要求高的 可采用超精研抛的方法。超精研抛是采用特制的磨具，在含有磨料的研抛液中，紧压在工件被加工表面上， 作高速旋转运动。 利用该技术可以达到 Ra0.008 μm 的表面粗糙度， 是各种抛光方法中最高的。 光学镜片 模具常采用这种方法。 1.2 化学抛光 化学抛光是让材料在化学介质中表面微观击出的部分较凹部分优先溶解，从而得到帄滑面。这种方法的主 要优点是不需复杂设备，可以抛光形状复杂的工件，可以同时抛光很多工件，效率高。化学抛光的核心问 题是抛光液的配制。化学抛光得到的表面粗糙度一般为数 10 μm 。 1.3 电解抛光 电解抛光基本原理与化学抛光相同，即靠选择性的溶解材料表面微小击出部分，使表面光滑。与化学抛光 相比，可以消除阴极反应的影响，效果较好。电化学抛光过程分为两步： （ 1 ）宏观整帄 溶解产物向电解液中扩散，材料表面几何粗糙下降， Ra ＞ 1 μm 。 （ 2 ）微光帄整 阳极极化，表面光亮度提高， Ra ＜ 1 μm 。 1.4 超声波抛光 将工件放入磨料悬浮液中并一起置于超声波场中，依靠超声波的振荡作用，使磨料在