CN102652676A减少由成像系统递送的辐射剂量的方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局 *CN102652676A* (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 102652676 A (43)申请公布日 2012.09.05 (21)申请号 201210066188.0 (22)申请日 2012.03.05 (30)优先权数据 627/CHE/2011 2011.03.03 IN (71)申请人 通用电气公司 地址 美国纽约州 (72)发明人 A·K·钱德拉谢卡拉帕 P·吉里 G·马尼 Y·伊梅 H·奥诺德拉 (74)专利代理机构 中国专利代理(香港)有限公 司 72001 代理人 张金金 朱海煜 (51)Int.Cl. A61B 6/03 (2006.01) 权利要求书 1 页 说明书 5 页 附图 3 页 权利要求书1 页 说明书5 页 附图3 页 (54)发明名称 减少由成像系统递送的辐射剂量的方法 (57)摘要 本发明涉及减少由成像系统递送的辐射剂 量的方法。在一个实施例中，提供减少由成像 系统递送的辐射剂量的方法。该方法包括下列 步骤：基于要遮盖的器官的形状选择虚拟遮罩 表示 (102)，在定位图像上显示该虚拟遮罩表示 (104)，并且操纵要递送的辐射剂量 (106) 以便修 改该虚拟遮罩表示来获得最佳衰减轮廓。 A 6 7 6 2 5 6 2 0 1 N C CN 102652676 A 权 利 要 求 书 1/1 页 1. 一种减少由成像系统递送的辐射剂量的方法，所述方法包括： 基于要遮盖的器官的形状选择虚拟遮罩表示 (102)； 在定位图像上显示所述虚拟遮罩表示 (104)；以及 操纵要递送的辐射剂量 (106) 以便修改所述虚拟遮罩表示来获得最佳衰减轮廓。 2. 如权利要求1 所述的方法，进一步包括： 根据所述虚拟遮罩表示控制射束调制。 3. 如权利要求1 所述的方法，其中操纵所述辐射剂量的步骤包括： 从每个切片采集投影数据集 (202)，所述投影数据集指示所述辐射的患者衰减； 从采集的投影数据集计算相对衰减函数 (204)，所述相对衰减函数指示在每个切片位 置相对于已知参考对象的辐射衰减的预期辐射衰减； 使用所述相对衰减函数的对应值以及在已知参考对象中产生期望辐射剂量的参考射 束电流命令来计算每个切片的射束电流命令 (206)；以及 对于每个切片，使用由该切片的射束电流命令确定的辐射剂量采集图像数据集 (208)。 4. 一种减少由成像系统递送的辐射剂量的方法，所述方法包括： 基于要遮盖的器官的形状选择虚拟遮罩表示 (302)； 获得所述虚拟遮罩表示的图像数据集 (304)； 作为所述图像数据集的函数计算要递送的辐射剂量 (306)； 操纵要递送的辐射剂量 (308) 以便修改所述虚拟遮罩表示来获得最佳衰减轮廓；以及 根据所述虚拟遮罩表示控制射束调制 (310)。 5. 如权利要求4 所述的方法，进一步包括显示递送的辐射剂量。 6. 如权利要求4 所述的方法，其中最佳衰减轮廓基于递送到所遮盖的器官的最小辐射 剂量来选择。 7. 如权利要求4 所述的方法，其中最佳衰减轮廓指示所述虚拟遮罩表示和要遮盖的所 述器官的理想图像之间的紧密匹配。 8. 如权利要求1 所述的方法，其中操纵所述辐射剂量的步骤包括： 从采集的投影数据集计算相对衰减函数，所述相对衰减函数指示在每个切片位置相对 于已知参考对象的辐射衰减的预期辐射衰减。