西安交通大学考研849半导体物理2003年真题(整理版).docxVIP

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  • 2020-05-26 发布于湖北
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西安交通大学考研849半导体物理2003年真题(整理版).docx

2003年真题 区别并说明下列各对术语的物理意义及特点。(30分) 浅能级杂质和深能级杂质 状态密度有效质量和电导有效质量 费米能级和准费米能级 非平衡载流子和热载流子 欧姆接触和肖特基接触 平带电压和阈值电压(对MOS电容而言) 在不考虑载流子统计分布的情况下: 证明半导体中有两种载流子同时存在,其霍尔系数RH= 根据上面结果分别就本征、n型、p型半导体在不同温度范围内变化情况进行分析讨论。 三、 1、在一块掺硼的P型硅中,含有一定浓度的铟,室温时测得空穴浓度P0=1.1*1016/cm3,已知硼浓度NA1=1016/cm3,硼的电离能ΔEA1=0.045eV,铟的电离能ΔEA2=0.16eV,试求费米能级位置和铟浓度。(NV=1.1*1019/cm3) 2、在某种半导体中掺入受主杂质NA=1.74*1013/cm3,在室温时,该半导体的电导率正好取得最小值σmin=2.1*10-2S/cm,试求在这块半导体在这种条件下的电子和空穴迁移率μn,μp,(ni=2.4*1012/cm3) 四、均匀的n型半导体,用一矩形脉冲照射,在内部均匀产生非平衡载流子,其产生率gp,寿命为τp,光脉冲持续时间为Δt。 1、求样品从光脉冲照射开始(t=0)到光脉冲结束以后的整个时间内,非平衡载流子随时间的变化规律,并画出曲线示意图。 2、设gp=1017/cm3,S,τp=10μs,Δt=20μs时

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