西安交通大学考研849半导体物理2004年真题(整理版).docxVIP

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  • 2020-05-26 发布于湖北
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西安交通大学考研849半导体物理2004年真题(整理版).docx

2004年真题 试说明半导体中有效质量的意义和性质,砷化镓导带最低能谷中电子有效质量和次低能谷中有效质量哪个大?为什么? 简述Si、Ge、和砷化镓导带的能带结构 金在硅中引入一个导带底下面0.54eV的受主能级和价带之上0.35eV的施主能级,试说明在下列情况下,金将是什么荷电状态,费米能级相对本征能级的位置和硅的导电类型。 (1)、只有Au,浓度为NAu (2)、掺有浅施主杂质,浓度NDNAu (3)、掺有浅受主杂质,浓度NANAu 四、在一维情况下,说明非平衡态半导体中载流子(空穴)运动规律的连续性方程的各部分所表示的物理意义。 五、下面是pn结硅光电池的示意图,分别绘图或用语言说明下列要求内容: (1)pn结自建电场方向; (2)光生载流子的运动方向; (3)光生电流的方向; (4)pn结正向电流方向 (5)广生电压的正、负极。 六、在讨论由p型半导体组成的MIS结构的表面电场效应时,引入了F函数,写出下列情况F函数的近似表达式: (1)多子积累状态; (2)平带状态 (3)耗尽状态 (4)表面本征状态 (5)临界强反型状态 (6)强反型状态 七、试用一维非均匀掺杂非简并p型半导体模型导出爱因斯坦关系式 八、有三块锗单晶,已知第一块中掺有杂质磷和硼,浓度分别为ND1=4*1013/cm3、NA1=6*1012/cm3,第二块只掺有杂质磷,其浓度为ND2=4*1016/cm3,

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