西安交通大学考研849半导体物理2013年真题(整理版).docxVIP

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  • 2020-05-26 发布于湖北
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西安交通大学考研849半导体物理2013年真题(整理版).docx

2013年 一、名词解释 1、能带 2、有效质量 3、少子寿命 4、准费米能级 5、施主杂质 二、简答题 1、以n型半导体为例,假定在禁带中部偏下的位置存在一个能级,在该能级之上的表面态为受主型,之下的为施主型(1)简要说明高密度表面态对金属与半导体接触的影响(2)试画出此种情况下,当金属功函数小于半导体功函数时的能级图,并说明费米能级与题中能级之间的位置关系。 2、简要说明在利用光电导衰减法测量少子寿命原理:一般在测量时,为什么在脉冲光照的同时还要加上恒定光照。 三、计算题 1、试推导理想MIS结构的开启电压随温度变化的表达式。 2、一均匀掺杂的N型半导体样品,在左半部用稳定均匀分布的光照射,均匀产生电子空穴对,产生率为g,若样品两半部分长度均远远大于扩散长度LP,试求稳态时样品两边空穴浓度分布(不考虑宽度、表面及电场的影响)

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