西安交通大学考研849半导体物理2018年真题(整理版).docxVIP

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  • 2020-05-26 发布于湖北
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西安交通大学考研849半导体物理2018年真题(整理版).docx

2018年真题 名词解释 负微分迁移率 间接复合 深能级杂质 表面态 光电导 有效质量 Si的能带结构 状态密度有效质量和电导有效质量 PN空间电荷区 伯斯坦移动和弗朗兹克尔德什效应产生的条件,分别解释。 画出根据隧道效应,在P衬底上制造欧姆接触的能带图(欧姆接触和产生欧姆接触的方法) 为了保证玻尔兹曼近似有效,半导体内的费米能级在n型半导体中必须低于施主能级3KT,在p型半导体中,必须高于受主能级3KT。假设T=300K,求使得:硅内玻尔兹曼近似有效的最大电子浓度(n)和最大空穴浓度(p)(第三版107页4-27) 半导体中总电流恒定,由电子漂移电流和空穴扩散电流组成。电子浓度恒为1016cm-3,空穴浓度为px=1015exp?(-xL)cm-3(x≥0),其中L=12μm,空穴扩散系数DP=12cm/s,电子迁移率μ (1)空穴扩散电流密度随x的变化关系; (2)电子电流密度随x的变化关系; 电场强度随x的变化关系; 九、器件部分简答题:考虑ΔVt的变化:(1)掺硼以后的变化 (2)在原有基础上加上复合 (3)考虑短沟道效应

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