中微公司深度解析-ICP开启刻蚀第二成长曲线，打造泛半导体平台.docx

? ? 中微公司深度解析 ICP开启刻蚀第二成长曲线，打造泛半导体平台 ? ? 一、21H1营收和利润维持快速成长，刻蚀设备为主要驱动力 中微公司为国产半导体设备龙头，主营业务包括刻蚀设备和MOCVD设备。中微成立于2004年，公司主要业务是开发大型真空的微观器件工艺设备，包括等离子体刻蚀设备和薄膜沉积设备。其中等离子体刻蚀设备又可以分为电容性等离子体刻蚀设备（CCP）和电感性等离体刻蚀设备（ICP）。CCP主要用于刻蚀氧化物、氮化物等硬度高、需要高能量离子反应刻蚀的介质材料。ICP主要用于刻蚀单晶硅、多晶硅等材料。通过核心技术的创新，公司的产品已达到国际先进水平。公司的等离子体刻蚀设备已应用在国际一线客户从65纳米到14纳米、7纳米和5纳米及其他先进的集成电路加工制造生产线及先进封装生产线。公司MOCVD设备在行业领先客户的生产线上大规模投入量产，公司已成为世界排名前列的氮化镓基LED设备制造商。 公司2016-2020年营收呈现稳步增长趋势，CAGR高达30.12%。分产品来看，1）刻蚀设备贡献主要成长动力，2016-2020年营收CAGR高达22.36%，公司为国内刻蚀设备龙头厂商，凭借双反应台配置的高生产效率及国际领先的性能在国内主流晶圆厂刻蚀设备份额不断提升；2）MOCVD在2016-2018年呈现高增长，营收从2016年的0.16亿增长至2018年的8.32亿，CAG