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在一个总体方面,本公开涉及一种质谱(MS)设备。所述MS设备包括质谱仪、耦接至所述质谱仪的电离源和耦接至所述电离源的流动注射系统(FIS)。所述电离源配置为朝向所述质谱仪的入口提供分析物的电离气体流。所述电离源进一步配置为提供第二气体的第二气体流。所述MS设备配置为测量所述分析物的质谱仪(MS)信号。所述MS设备进一步配置为分析所述分析物的所述MS信号对所述第二气体流的参数或所述第二气体流的状态的相关性并基于所分析的相关性确定所述设备的状况。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114544795 A
(43)申请公布日 2022.05.27
(21)申请号 202111395830.5
(22)申请日 2021.11.23
(30)优先权数据
1 2020
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