(3.4)--4-透射电镜像衬度.pdfVIP

• 像衬度：图像上不同区域间明暗程度的 差别，电子衍射强度的大小。 • 形成机理：样品对入射电子束的散射。 • 电子波穿过样品时，其振幅和相位将发 生变化，这些变化都可以产生像衬度。 质厚衬度：非晶样品衬度的 振幅衬度 主要来源 衍射衬度：晶体样品衬度的 主要来源 相位衬度：高分辨透射电子显微像 入射电子束 原子序数 • 质厚衬度来源于电子 或厚度 的弹性散射。 原子核 • 电子穿过样品时，与 原子核弹性作用被散 射而偏离光轴。随样 品厚度和原子序数增 加，将发生更多的弹 电子云 性散射。 散射电子束 • 样品上原子序数较高或样品较厚的区域 (较 黑)比原子序数较低或样品较薄的区域 (较 亮)将使更多的电子散射而偏离光轴。 厚度 原子序数 B A 如果是暗场像的话， 会出现什么样的现 象？？ Aˊ • 衍射衬度 （简称衍称）：样品各处衍射束 强度的差异形成的衬度 • 影响因素：晶体取向和结构振幅 • 晶体样品的成像过程中，起决定作用的是 晶体对电子的衍射。 • 对于没有成分差异的单相材料，衍射衬度 是由样品各处是否满足布拉格条件程度的 差异决定的。 形成显示质厚衬度的暗场像时，可以利 用任意的散射电子， 形成显示衍射衬度的明场像与暗场像 时，为了获得高衬度，高质量的图像，须 满足 “双束条件” 双束条件 B 晶粒中某一晶面 （hkl ）与入射束 B A 严格遵循布拉格方 程 I I -I B 0 HKL 明场成像 A 晶粒中所有晶面 IA I0 与入射束都不满足 布拉格方程 暗场成像 IB IHKL IA 0 将A 晶粒的像强度I 作为像的背景像强度I， A 则B 晶粒的像衬度： 明场成像： （ΔI/I ） （I -I ）/I I/I B A B A 0 暗场成像： （ΔI/