2024《创造成果的评价和保护》大单元整体教学设计与思路 （地质版）（新版）.docx

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《创造成果的评价和保护》大单元整体教学设计（地质版）

一、内容分析与整合

（一）教学内容分析

本次大单元教学设计围绕2019版地质版高中通用技术选择性必修9《创造力开发与技术发明》的第四章《创造成果的评价和保护》展开。本章内容主要分为三节：第一节《创造成果的设计与实现》，包括创造成果的设计和创造成果的实现；第二节《创造成果的评价》，涵盖创造成果的评价标准、测试、评估和优化；第三节《创造成果的保护》，涉及创造成果的保护意识、保护途径以及专利的申请及审批。通过这一章的学习，学生将掌握创造成果从设计、实现到评价、保护的全过程，培养他们在技术创新过程中的综合能力和法律意识。

（二）单元内容分析

创造成果的设计与实现

创造成果的设计：学生需要了解创造成果设计的基本原则和方法，包括需求分析、方案设计、原型制作等环节。通过案例分析，学生能够掌握如何根据实际需求进行创意设计，并能够将设计理念转化为具体的设计方案。

创造成果的实现：在设计完成后，学生需要了解如何通过技术手段将设计方案转化为实际的创造成果。这一环节包括材料选择、工艺流程、原型制作与测试等，旨在培养学生的动手实践能力和解决问题的能力。

创造成果的评价

创造成果的评价标准：学生需要了解创造成果评价的多维度标准，包括新颖性、创造性、实用性等。通过讨论和案例分析，学生能够掌握如何根据这些标准对创造成果进行客观评价。

创造成果的测试、评估和优化：在评价标准的基础上，学生需要学习如何对创造成果进行测试和评估，发现存在的问题并提出改进方案。这一过程有助于培养学生的批判性思维和优化能力。

创造成果的保护

创造成果的保护意识：学生需要认识到创造成果保护的重要性，了解知识产权的基本概念和相关法律法规。通过案例分析，学生能够增强保护创造成果的法律意识。

创造成果的保护途径：学生需要了解创造成果保护的多种途径，包括专利申请、版权登记等。通过实际操作和模拟演练，学生能够掌握这些保护途径的具体操作流程。

专利的申请及审批：作为创造成果保护的重要途径之一，专利申请过程复杂且关键。学生需要了解专利申请的基本流程、所需材料以及审批要点，为将来可能涉及的专利申请工作打下基础。

（三）单元内容整合

本章内容整合了创造成果从设计到保护的全过程，形成了一个完整的创新链条。在教学过程中，应注重各个环节之间的衔接和过渡，确保学生能够系统地掌握创造成果评价与保护的相关知识和技能。通过案例分析、实践操作和模拟演练等多种教学方式，增强教学的互动性和实效性，提高学生的参与度和学习兴趣。

二、《普通高中通用技术课程标准（2017年版2020年修订）》分解

通用技术的核心素养目标

根据《普通高中通用技术课程标准（2017年版2020年修订）》，通用技术的核心素养目标主要包括技术意识、工程思维、创新设计、图样表达和物化能力五个方面。以下是对这些核心素养目标在本章教学内容中的具体分解：

（一）技术意识

理解技术现象与问题：在创造成果的设计与实现过程中，学生能够感知和理解技术现象及问题，形成对技术的敏感性和洞察力。

形成积极的技术价值观：通过对创造成果的评价和保护的学习，学生能够认识到技术对社会、经济和环境的影响，形成积极的技术价值观和社会责任感。

技术使用的安全意识与规范意识：在创造成果的实现过程中，学生能够遵守技术操作的安全规范和标准，确保技术使用的安全性和可靠性。

（二）工程思维

系统分析与整体规划：在创造成果的设计阶段，学生能够运用系统分析的方法对问题进行要素分析、整体规划，并设计出合理的解决方案。

风险评估与综合决策：在创造成果的评价和优化过程中，学生能够识别潜在的风险因素并进行综合评估，从而做出科学的决策。

结构、流程、系统与控制的应用：在创造成果的实现过程中，学生能够运用结构、流程、系统与控制等基本思想和方法进行技术设计和制作。

（三）创新设计

创新性方案构思：在创造成果的设计阶段，学生能够基于技术问题进行创新性方案构思，提出具有新颖性和创造性的设计方案。

技术试验与探究：在创造成果的实现和优化过程中，学生能够通过技术试验和探究来验证设计方案的可行性和有效性，并进行必要的调整和改进。

综合社会文化因素评价设计方案：在创造成果的评价阶段，学生能够综合考虑社会文化因素对设计方案的影响，对设计方案进行客观全面的评价。

（四）图样表达

技术图样的识读与绘制：在创造成果的设计与实现过程中，学生能够识读和绘制各种技术图样，包括设计图纸、工艺流程图等，以清晰地表达设计意图和制作要求。

技术图样的交流与沟通：通过技术图样的交流和沟通，学生能够与团队成员或相关人员进行有效的沟通和协作，确保创造成果的顺利实现。

技术图样的优化与创新：在创造成果的优化过程中，学生能够根据实际需求和技术发展对技术图样进行不断的优化和创新，提高创造成果的质量和性能。