CN111477564B 基板处理装置、基板处理系统以及基板处理方法 （东京毅力科创株式会社）.docxVIP

(19)国家知识产权局

(12)发明专利

(10)授权公告号CN111477564B(45)授权公告日2025.07.15

(21)申请号202010074294.8

(22)申请日2020.01.22

(65)同一申请的已公布的文献号申请公布号CN111477564A

(43)申请公布日2020.07.31

(30)优先权数据

2019-0098312019.01.24JP

(73)专利权人东京毅力科创株式会社地址日本东京都

(72)发明人林圣人野口耕平东广大绪方诚

(51)Int.CI.

H01L21/67(2006.01)

H01L21/677(2006.01)

(56)对比文件

JP2016225574A,2016.12.28JPS6395341A,1988.04.26

CN212062395U,2020.12.01

审查员朱丹丹

(74)专利代理机构北京林达刘知识产权代理事

务所(普通合伙)11277专利代理师刘新宇张会华

权利要求书5页说明书14页附图20页

(54)发明名称

基板处理装置、基板处理系统以及基板处理方法

(57)摘要

CN111477564B本发明提供基板处理装置、基板处理系统以及基板处理方法。使光学检测供向基板供给的流体流通的供给路径中的异物的基板处理装置小型化。基板处理装置包括：供给路径，其供向基板供给的流体流通；以及异物检测单元，所述供给路径的局部构成流路形成部，该异物检测单元利用投光部形成有朝向该流路形成部的光，作为其结果，自所述流路形成部发出光，该异物检测单元能够基于受光部接收自所述流路形成部发出的光而得到的信号来检测所述流体中的异物，其中，所述异物检测单元中的所述投光部和所述受

CN111477564B

100

CN111477564B权利要求书1/5页

2

1.一种基板处理装置，该基板处理装置包括：

供给路径，其供向基板供给的流体流通；以及

异物检测单元，其利用投光部形成有朝向构成所述供给路径的局部的流路形成部的光，作为其结果，自所述流路形成部发出光，该异物检测单元能够基于受光部接收自所述流路形成部发出的光而得到的信号来检测所述流体中的异物，其特征在于，

所述异物检测单元中的所述投光部和所述受光部设于以所述流路形成部为基准的上下左右前后的区域中的不相对的区域，

该基板处理装置还包括：流路形成部的列，在该流路形成部的列中，相对于一个所述流路形成部在与朝向所述投光部所位于的一侧的方向以及朝向所述受光部所位于的一侧的方向不同的第1方向上成列地设有一个以上的其他的流路形成部，

当将所述流路形成部成列的方向设为左右方向、将与该列垂直的水平方向设为前后方向时，

所述受光部和所述投光部中的一者相对于成列的多个所述流路形成部而位于下方，另一者相对于成列的多个所述流路形成部而位于前侧和后侧中的任一侧，

该基板处理装置设置有所述投光部和所述受光部所共用的移动机构，所述移动机构使该投光部和该受光部沿着所述流路形成部的列移动，

所述流路形成部包括内部的流路的入口和出口，

所述入口和所述出口设为，以所述流路形成部为基准成为与所述投光部的位置和所述受光部的位置不同的朝向，

所述流路形成部具有包含所述入口的第1流路、与所述第1流路正交的第2流路以及连接所述第2流路和所述出口的第3流路，所述入口和所述出口设于所述流路形成部的同一

面，

所述受光部测量通过光照到第1流路而放出的散射光中的第2流路侧的侧方散射光，

来自所述投光部的光轴与所述第1流路的流动方向垂直地向所述第1流路入射，并且不通过除所述光轴所入射的第1流路以外的流路。

2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，

所述受光部和所述投光部共用于多个所述流路形成部，

所述移动机构使所述投光部和所述受光部向与多个所述流路形成部中的被选择的流路形成部相对应的位置移动。

3.根据权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于，

所述移动机构构成为，能够在与第1方向不同的第2方向上移动，从而改变来自所述投光部的光所朝向的流路形成部与所述受光部之间的距离。

4.根据权利要求3所述的基板处理装置，其特征在于，

所述移动机构在使所述投光部和所述受光部在第1方向上移动而移动到与所述被选择的流路形成部相对应的位置时，使所述投光部和所述受光部在第2方向上移动，以成为自所述被选择的流路形成部到利用