碱性硅晶片抛光液
原料配比
原料
配比(质量份)
1#
2#
3#
磨料硅溶胶,粒径为50nm
20
-
-
CeO2磨料,粒径为110nm
-
30
-
磨料硅溶胶,粒径为70nm
-
-
30
螯合剂六羟丙基丙二胺
0.1
-
-
螯合剂EDTA
-
0.5
-
13个螯合环的螯合剂
-
-
1
PH调节剂氢氧化钾
2
4
-
PH调节剂四羟乙基乙二胺
-
-
3
活性剂FA/O系列活性剂
0.1
-
-
脂肪醇聚氧乙烯醚
-
0.5
-
活性剂烷基醇酰胺
-
-
0.5
去离子水
77.8
65
65.5
制备方法取磨料,在搅拌条件下加入螯合剂,再加入PH调节剂,加入活性剂,再加
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