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用于砷化镓晶片的抛光液.doc

用于砷化镓晶片的抛光液.doc

    用于砷化镓晶片的抛光液

    原料配比

    原料

    配比（质量份）

    1#

    2#

    CeO2磨料，粒径100~120nm

    40

    －

    水溶硅溶胶磨料，粒径为60~80nm

    －

    750

    四羟基乙基乙二胺

    4

    －

    EDTA

    －

    30

    氢氧化钾

    4

    60

    脂肪醇聚氧乙烯醚

    1

    －

    烷基醇酰胺

    －

    15

    去离子水

    余量

    余量

    制备方法首先将制备抛光液的各种组份分别进行过滤净化处理，然后在千级净化室的环境内，将各种组份在真空负压的动力下，通过质量流量计输入容器罐中并充分搅拌，混合均匀即可。

    原料配伍本品各组分质量份配比范围为：磨料40~750、螯合剂4~30、表面活性剂1~15、PH调节剂4~60、去离子水余

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