CN118622986A 密封结构、密封方法以及密封表面的制作方法 （北京华卓精科科技股份有限公司）.pdfVIP

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN118622986A

(43)申请公布日2024.09.10

(21)申请号202310217162.XC23C14/24(2006.01)

C23C14/35(2006.01)

(22)申请日2023.03.02

C23C14/06(2006.01)

(71)申请人北京华卓精科科技股份有限公司C23C14/58(2006.01)

地址100176北京市大兴区北京经济技术

开发区科创十街19号院2号楼2层（北

京自贸试验区高端产业片区亦庄组

团）

申请人北京优微精密测控技术研究有限公

司

(72)发明人高晓宇赵彦坡张利

(74)专利代理机构北京荟英捷创知识产权代理

事务所(普通合伙)11726

专利代理师王献茹

(51)Int.Cl.

F16J15/10(2006.01)

权利要求书2页说明书6页附图4页

(54)发明名称

密封结构、密封方法以及密封表面的制作方

法

(57)摘要

本申请涉及半导体制造技术领域，具体而

言，涉及一种密封结构、密封方法以及密封表面

的制作方法。该密封结构包括密封表面和胶带；

密封表面包括设置于待密封件的亲水层和第一

疏水层，亲水层覆盖于缝隙外周侧的待密封部

位，第一疏水层覆盖于与待密封部位相邻接的非

密封部位；胶带包括粘贴层和第二疏水层，粘贴

层粘贴于待密封部位的亲水层，以覆盖所述缝

隙，第二疏水层位于胶带的外表面。密封表面的

制作方法用于制备密封表面。密封方法采用密封

结构对待密封件的缝隙进行密封。该密封结构能

A够避免液体流过时产生液滴残留，具有有效的防

6水和密封作用；能够减少甚至避免液体冲刷胶

8

9

2带，保证胶带的粘附力，避免胶带起边问题。

2

6

8

1

1

N

C

CN118622986A权利要求书1/2页

1.一种密封结构，其特征在于，用于密封待密封件的缝隙(400)，包括密封表面(100)和

胶带(200)；

所述密封表面(100)包括设置于待密封件的亲水层(120)和第一疏水层(130)，所述亲

水层(120)覆盖于所述缝隙(400)外周侧的待密封部位(410)，所述第一疏水层(130)覆盖于

与所述待密封部位(410)相邻接的非密封部位(420)，且所述第一疏水层(130)外表面凸出

于所述亲水层(120)的外表面；

所述胶带(200)包括粘贴层(230)和第二疏水层(210)，所述粘贴层(230)粘贴于所述待

密封部位(410)的亲水层(120)，以覆盖所述缝隙(400)，所述第二疏水层(210)位于所述胶

带(200)的外表面。

2.根据权利要求1所述的密封结构，其特征在于，所述密封表面(100)的亲水层(120)延

伸至所述非密封部位(420)，且所述第一疏水层(130)覆盖于所述非密封部位(420)的亲水

层(120)。

3.根据权利要求2所述的密封结构，其特征在于，所述密封表面(100)还包括打底层

(110)，所述打底层(110)覆盖于所述待密封件的外表面，所述亲水层(120)覆盖于所述打底

层(110)。

4.根据权利要求1所述的密封结构，其特征在于，所述胶带(200)还包括设置于所述粘

贴层(