CN1917135A 一种新型x射线管及其制作方法 （深圳大学）.docxVIP

[19]中华人民共和国国家知识产权局

[12]发明专利申请公布说明书

[21]申请号200610062487.1

[51]Int.Cl.

H01J35/00(2006.01)

HO1J35/08(2006.01)

HO1J35/06(2006.01)

H01J35/14(2006.01)H05G1/00(2006.01)

[43]公开日2007年2月21日[11]公开号CN1917135A

[22]申请日2006.9.7

[21]申请号200610062487.1

[71]申请人深圳大学

地址518060广东省深圳市南山区南海大道3688号

[72]发明人牛憨笨郭金川王凯歌杨勤劳

权利要求书2页说明书6页附图6页

[54]发明名称

一种新型X射线管及其制作方法

[57]摘要

本发明涉及一种新型X射线管，它产生的X射线束同时具有高的空间相干性，大的剂量和大的发射角。为此，本发明或者采用宽电子束或离子束轰击结构阳极，或者采用结构电子束或离子束轰击无结构阳极，产生呈平行线排列的X射线线阵发射体。后者的实现或者采用结构电子或离子束发射体、或者采用结构栅极、或者采用电子或离子束扫描等方式，而结构阳极采用线宽足够窄的高Z金属条带组成的呈平行线排列的周期结构。本发明涉及的X射线管，既可工作于连续工作方式，也可工作于脉冲工作方式；既可输出硬X射线，也可输出软X射线。本发明将可用于生物学、医学、材料科学等基础研究，也可用于疾病诊断、工业无损探伤、在线检测、海关检查等领域。

200610062487.1权利要求书第1/2页

2

1.一种新型X射线管，其特征是所发射的X射线具有良好的空间相干性、高的剂量和宽的发射角。这种X射线管或者通过电子束或离子束轰击结构阳极，或者通过结构电子束或离子束轰击无结构阳极，形成呈平行线排列的X射线的线状发射体。各线状发射体发出的X射线束具有大的发射角，因而各射线束相互交叠共同作用于物体，满足大剂量的要求。这种X射线管既可工作于连续模式，也可工作于脉冲模式。

2.根据权利要求1所述的结构阳极，其特征是结构阳极由高Z元素如钨、钼等和低Z元素如铝、铍等金属材料构成。

3.根据权利要求2所述的结构阳极，其特征是高Z和低Z金属元素材料可为带状材料，也可为体材料，高Z带状材料厚度为0.001-0.1mm,低Z带状材料厚度为0.02-2mm。

4.根据权利要求2和3所述的结构阳极，其特征是高Z和低Z带状材料在加工成所需要的结构后作相间排列。

5.根据权利要求2和3所述的结构阳极，其特征是高Z和低Z体材料加工成所需要的结构后作相间排列。

6.根据权利要求2、3、4和5所述的结构阳极，其特征是呈相间排列的高Z和低Z结构件的端面倾角作反方向排布。

7.根据权利要求2、3、4、5和6所述的结构阳极，其特征是面向电子束或离子束的总面积取决于电子束或离子束的截面大小，二者其中一个应不大于1-2mm2。

8.根据权利要求2、3、4、5、6和7所述的结构阳极，其特征是镶嵌在一个导热性能良好的金属底座上或可以旋转的底座上。

9.根据权利要求1所述的电子束，其特征是它可由热发射阴极(如钨阴极、六硼化镧阴极或氧化物阴极等)、场发射阴极(如金属尖、金刚石或碳纳米管)或光源驱动下的光电发射阴极(如金属膜阴极、碱锑阴极、III-V簇阴极等)等现有的任何电子源所产生。

10.根据权利要求1所述的离子束，其特征是它可由现有的任何离子源所产生。

11.根据权利要求1和7所述的电子束或离子束，其特征是通过电子光学系统或离子光学系统使轰击结构阳极的电子束斑或离子束斑具有所希望的束斑截面大小。

12.根据权利要求1所述的结构电子束或离子束，其特征是通过电子光学系统或离子光学系统聚焦，形成微束斑电子束或离子束，在阳极处的束斑直径为0.001-0.1mm。

13.根据权利要求1和12所述的结构电子束或离子束，其特征是通过两维电场或磁场偏转系统，使微束斑电子束或离子束在阳极上的落点分布形成线宽为束斑直径的平行线结构。

14.根据权利要求1所述的结构电子束或离子束，其特征是所用电子源或离子源可以产生线宽为0.005-0.1mm的平行线结构的电子束或离子束。

15.根据权利要求1和14所述的结构电子束或离