CN104880267A 一种光纤微纳法珀干涉型压力传感器及其制作方法 （北京理工大学）.docxVIP

(19)中华人民共和国国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN104880267A

(43)申请公布日2015.09.02

(21)申请号201510282041.9

(22)申请日2015.05.28

(71)申请人北京理工大学

地址100081北京市海淀区中关村南大街5

号北京理工大学

(72)发明人姜澜江毅王鹏王素梅刘达

(51)Int.CI.

GO1L1/24(2006.01)

权利要求书1页说明书3页附图1页

(54)发明名称

一种光纤微纳法珀干涉型压力传感器及其制作方法

(57)摘要

CN104880267A本发明涉及一种光纤微纳法珀干涉型压力传感器及其制作方法，属于光纤传感器技术领域；所述压力传感器由一根端面带有微孔的光纤(1)和一段端面完整的光纤膜片(2)熔接构成，所述熔接面与微孔构成内嵌的法布里-珀罗微腔；制作方法：用飞秒激光在一根光纤的端面加工出微孔，此光纤与另一根端面完整的光纤熔接构成法珀微腔，切除并研磨一端的光纤长度至几微米，构成光纤薄膜，形成微纳结构的压力传感器。对比现有传感器，由于传感头是微纳尺寸，温度对压力测量的交叉影响小；使用性能相同的石英材料制成，热膨胀系数一致，结构稳定；综合材质及制作

CN104880267A

CN104880267A权利要求书1/1页

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1.一种光纤微纳法珀干涉型压力传感器，其特征在于：由一根端面带有微孔的光纤(1)和一段端面完整的光纤膜片(2)熔接构成，所述熔接面与微孔构成内嵌的法布里-珀罗微腔。

2.根据权利要求1所述的一种光纤微纳法珀干涉型压力传感器，其特征在于：所述光纤(1)和光纤膜片(2)可以采用普通光纤，也可以采用光子晶体光纤，当光纤(1)采用光子晶体光纤时，光纤膜片(2)可以采用光子晶体光纤或无芯光纤。

3.根据权利要求1所述的一种光纤微纳法珀干涉型压力传感器，其特征在于：所述光纤(1)的微孔沿光纤轴向长度1∈[8μm,2000μm],径向直径d∈[10μm,120μm]。

4.根据权利要求1所述的一种光纤微纳法珀干涉型压力传感器，其特征在于：所述光纤膜片(2)的厚度h∈[1μm,100μm]。

5.根据权利要求1-4任一所述的一种光纤微纳法珀干涉型压力传感器，其特征在于：所述光纤膜片(2)非熔接端表面需做粗糙化处理，消除外表面的反射，避免与微腔两表面的反射光构成三光束干涉。

6.一种光纤微纳法珀干涉型压力传感器的制作方法，包括以下步骤：

(1)用光纤切割刀切割光纤(1)和光纤(2),对光纤(1)和光纤(2)的切割端面做高精度的研磨处理；

(2)使用飞秒激光微加工技术在光纤(1)研磨好的端面上加工微孔(3);

(3)用光纤熔接机将光纤(1)的微孔端面和光纤(2)的研磨端面进行熔接，熔接后即在光纤内部形成法布里-珀罗微腔(3);

(4)切去熔接面一侧多余的光纤(2)部分，使其厚度在1mm以内成为光纤膜片(2);

(5)对光纤膜片(2)外表面(5)做进一步精细加工，使其厚度满足压力测量范围要求；

(6)对光纤膜片(2)外表面(5)进行粗糙化处理以去除端面反射。

7.根据权利要求6所述的一种光纤微纳法珀干涉型压力传感器的制作方法，其特征在于：步骤(5)所述精细加工可以采用以下两种方式完成：(一)通过研磨方法将光纤膜片(2)研磨至压力传感器所需的膜片厚度，研磨过程中，由于形成的研磨表面反射率较高，利用三光束干涉的白光干涉解调技术监控研磨后膜片的厚度；(二)使用飞秒激光截断光纤，直接切出压力传感器所需厚度的。

8.根据权利要求6或7任一所述的一种光纤微纳法珀干涉型压力传感器的制作方法，其特征在于：步骤(6)所述粗糙化处理可以使用飞秒激光微加工技术或氢氟酸腐蚀方式对光纤膜片外表面(5)进行粗糙化处理，并在处理过程中调控光纤膜片(2)厚度。

CN104880267A说明书1/3页

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一种光纤微纳法珀干涉型压力传感器及其制作方法

技术领域

[0001]本发明涉及一种压力传感器，特别涉及一种光纤微纳法珀干涉型压力传感器及其制作方法，属于光纤传感器技术领域。

背景技术

[0002]光纤法珀