CN103870263A 掩模版图最小物理规则验证文件的制作方法 （上海华虹宏力半导体制造有限公司）.docxVIP

(19)中华人民共和国国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN103870263A

(43)申请公布日2014.06.18

(21)申请号201210549797.1

(22)申请日2012.12.17

(71)申请人上海华虹宏力半导体制造有限公司地址201203上海市浦东新区张江高科技园

区祖冲之路1399号

(72)发明人徐靓张紫弘张兴洲倪凌云孙长江

(74)专利代理机构上海浦一知识产权代理有限公司31211

代理人丁纪铁

(51)Int.CI.

GO6F9/44(2006.01)

权利要求书1页说明书5页附图2页

(54)发明名称

掩模版图最小物理规则验证文件的制作方法

根据掩模版图设计文书胡作B

根据掩模版图设计文书胡作B生成演算式文件

利用解析器完成对层次操作的逐行解析，获得其中的层次和数字信息

将T生成演算式文件中每行的层次操作倍息储存到层次总表中

将EB生成演算式文件中逻辑操作的每个元素解析，根据不同的操作符生成不同的操作指令制作规则语句，将逻辑操作指令按照层次总表顺序输出到所述规则语句形成规则验证文件

将检查指令和原始层次检测信息输出到规则验证文件，若还具有原始层次信息则再次利用解析器对层次操作逐行解析，直到规则验证文件中不再具有原始层次信息为

对规则验证文件逻辑操作优化，表达式解折归并

CN103870263A本发明公开了一种掩模版图最小物理规则验证文件的制作方法在LINUX系统下实施，包括根据掩模版图设计文书制作EB生成演算式文件；利用解析器完成对层次操作的解析，获得其中的层次和数字信息；将EB生成演算式文件中每行的层次操作信息储存到层次总表中；将EB生成演算式文件中逻辑操作的每个元素解析，形成规则验证文件；将检查指令和原始层次检测信息输出到规则验证文件，若还具有原始层次信息则返回执行步骤2),直到规则验证文件中不再具有原始层次信息为止；对规则验证文件逻辑操作优化，表达式解析归并。本发明能自动生成掩模版图最小物

CN103870263A

CN103870263A权利要求书1/1页

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1.一种掩模版图最小物理规则验证文件的制作方法在LINUX系统下实施，其特征是，包括：

1)根据掩模版图设计文书制作EB生成演算式文件，所述EB生成演算式文件提供生成掩模版图最小物理规则验证文件的原始层次信息；

2)利用解析器完成对层次操作的逐行解析，获得其中的层次和数字信息；

3)将EB生成演算式文件中每行的层次操作信息储存到层次总表中；

4)将EB生成演算式文件中逻辑操作的每个元素解析，根据不同的操作符生成不同的操作指令制作规则语句，将逻辑操作指令按照层次总表顺序输出到所述规则语句形成规则验证文件；

5)将检查指令和原始层次检测信息输出到规则验证文件，若还具有原始层次信息则返回执行步骤2),直到规则验证文件中不再具有原始层次信息为止；

6)对规则验证文件逻辑操作优化，表达式解析归并。

2.如权利要求1所述掩模版图最小物理规则验证文件的制作方法，其特征是：步骤4),采用层次间的布尔运算解析规则语句。

3.如权利要求1所述掩模版图最小物理规则验证文件的制作方法，其特征是：步骤6),优化归并采用：

若两层的层信息相同则将层编号大的层归并为层编号小的层；

若后层的层信息包含前层的层信息，则删除前层；

若有出现相同的两层，则删除其中一层，保留另一层。

CN103870263A说明书1/5页

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掩模版图最小物理规则验证文件的制作方法

技术领域

[0001]本发明涉及半导体制造领域，特别是涉及一种掩模版图最小物理规则验证文件的制作方法。

背景技术

[0002]EBslitcheck即检查各层masklayer(掩模版层次)在做完LogicOperation(层次逻辑演算)后是否还满足基本的设计规则(minimumwidth,minimumspace)。通常EBslitRuleDeck的开发流程如图1所示，需要的输入两部分信息：A.逻辑演算生成式；

B.最小设计规则信息；来形成EBs