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- 2026-05-02 发布于山西
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(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN119486397A
(43)申请公布日2025.02.18
(21)申请号202510066540.8
(22)申请日2025.01.16
(71)申请人江西兆驰半导体有限公司
地址330000江西省南昌市南昌高新技术
产业开发区天祥北大道1717号
(72)发明人胡加辉刘春杨金从龙顾伟
(74)专利代理机构广州三环专利商标代理有限
公司44202
专利代理师李素兰
(51)Int.Cl.
H10H20/815(2025.01)
H10H20/01(2025.01)
权利要求书2页说明书10页附图2页
(54)发明名称
一种用于超大电流的LED外延片及其制备方
法
(57)摘要
CN119486397A本发明涉及半导体的技术领域,公开了一种用于超大电流的LED外延片及其制备方法,所述LED外延片包括衬底,衬底上依次设置有AlN层、缓冲层、第一GaN层、第二GaN层、N型GaN层、应力释放层、多量子阱层、电子阻挡层和P型GaN层;应力释放层为周期性结构,每个周期性结构包括依次层叠的第三GaN层、InxGa1-xN层和AlyGa1-yN层,第三GaN层、InxGa1-xN层和AlyGa1-yN层于生长后还经过重结晶处理,重结晶处理在温度≥800℃,
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