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贵州大学《集成电路制造工艺》ppt课件 9 刻蚀工艺.pdfVIP

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  • 2026-05-11 发布于贵州
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贵州大学《集成电路制造工艺》ppt课件 9 刻蚀工艺.pdf

    刻蚀工艺

    贵州大学大数据与信息工程学院

    光刻总结

    n光刻：临时的图形转移过程

    nIC生长中最关键的工艺

    n需要：高分辨率、低缺陷密度

    n光刻胶：正胶和负胶

    n工艺过程：晶圆准备、底胶旋涂、光刻胶旋涂、

    前烘、对准曝光、后烘、显影、坚膜、检测

    n新一代光刻技术：极短紫外线

    刻蚀工艺

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