半导体制造常用工艺流程;一、集成电路的主要类型;;;;二、集成电路工艺类型;;;;三、芯片制造过程;;;四、双极型工艺元器件的结构
;;;;;;;;;五、典型的PN结隔离的双极型电路工艺流程;;;?光刻硼扩散区;?光刻磷扩散区;?光刻引线孔;?蒸镀金属;埋层的作用;电学隔离的作用
所有晶体管的集电极都在外延层上,隔离的目的是使不同隔离区的元件实现电隔离。
(1)反偏PN结隔离
(2)全介质隔离
(3)混合隔离元件;(1)反偏PN结隔离
通过外延,选择性扩散等工艺方法,将芯片划分为若干个由P区包围的N
您可能关注的文档
- 贵州大学《集成电路制造工艺》ppt课件 1 半导体制造工艺.pptx
- 贵州大学《集成电路制造工艺》ppt课件 2-2 双极型集成电路制作工艺.pdf
- 贵州大学《集成电路制造工艺》ppt课件 2-3 双阱CMOS制造工艺.pdf
- 贵州大学《集成电路制造工艺》ppt课件 3 硅衬底制备.pdf
- 贵州大学《集成电路制造工艺》ppt课件 4 硅片清洗.pdf
- 贵州大学《集成电路制造工艺》ppt课件 5 硅外延生长.pdf
- 贵州大学《集成电路制造工艺》ppt课件 6 硅热氧化.pptx
- 贵州大学《集成电路制造工艺》ppt课件 7 掺杂工艺.pptx
- 贵州大学《集成电路制造工艺》ppt课件 9 刻蚀工艺.pdf
- 贵州大学《集成电路制造工艺》ppt课件 8 光刻.pptx
原创力文档

文档评论(0)