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贵州大学《集成电路制造工艺》ppt课件 4 硅片清洗.pdf

贵州大学《集成电路制造工艺》ppt课件 4 硅片清洗.pdf

    清洗工艺

    贵州大学大数据与信息工程学院

    •目的

    了解硅衬底材料和夹具器皿的化学清洗原理，掌握具体的清洗工艺。

    •化学清洗的重要性

    1、SiO层的杂质沾污对器件性能的影响

    2

    2、硅片表面的离子吸附对器件的影响

    3、硅片表面的杂质沾污对外延质量的影响

    硅片表面沾污杂质的类型及来源

    •1、分子型杂质：油脂、树脂、油类物质

    带来的问题：在特定工艺下，微量沾污能降低栅氧化层材料的致密性。另一方面当它们

    吸附

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